CMCテクニカルライブラリー<br> 人工格子の基礎

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CMCテクニカルライブラリー
人工格子の基礎

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  • サイズ A5判/ページ数 204p/高さ 22cm
  • 商品コード 9784882317869
  • NDC分類 549.8
  • Cコード C3043

出版社内容情報

【執筆者一覧(執筆順)】

権田俊一     大阪大学 産業科学研究所
       (現) 福井工業大学 宇宙通信工学科
八百隆文     電子技術総合研究所 基礎部
        (現) 東北大学 金属材料研究所
佐野直克     関西学院大学 理学部
        (現) 関西学院大学 理工学部
金子邦雄     ソニー(株) 中央研究所
柳瀬知夫     日本電気(株) 光エレクトロニクス研究所
        (現) NECビューテクノロジー(株) 知的財産部
井上正崇     大阪工業大学 工学部
今井 元      (株)富士通研究所 厚木研究所
        (現) (株)富士通研究所 フォト・エレクトロニクス研究所
広瀬全孝      広島大学 工学部
        (現) (独)産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター
宮崎誠一      広島大学 工学部
       (現)  広島大学 大学院 先端物質科学研究所
新庄輝也      京都大学 化学研究所
山本良一      東京大学 工学部
        (現) 東京大学 国際・産学協同研究センター
齋藤充喜      電子技術総合研究所 基礎部
内田慎一      東京大学 工学部
(執筆者の所属は,注記以外は1985年当時のものです)


 【構成および内容】

第1章 総論                         権田俊一
 1.人工格子とは
 2.どんな材料を用いるか
 3.人工格子のつくり方
 4.どんな性質が期待されるか
  4.1 電気的性質
  4.2 光学的性質
  4.3 磁気的性質
 5.人工格子の研究の意義
 6.今後の展開

第2章 半導体人工格子
 1.半導体人工格子の設計と物性               八百隆文
  1.1 はじめに
  1.2 超格子のエネルギー帯構造
   1.2.1 ヘテロ接合界面
   1.2.2 量子井戸
   1.2.3 超格子状態の形成
  1.3 半導体人工格子の設計
   1.3.1 相厚による人工格子の分類
   1.3.2 半導体超格子の分類
   1.3.3 歪超格子
   1.3.4 有効質量超格子
  1.4 人工格子の物性
   1.4.1 周期が光の媒質内波長(ig)と同程度の場合
   1.4.2 周期が電子波長と同程度の場合
   1.4.3 単原子層超格子
   1.4.4 歪超格子
   1.4.5 不純物の選択ドーピング
   1.4.6 ドーピング超格子
   1.4.7 超格子各層の配列の順序
  1.5 おわりに
 2.半導体人工格子の作製技術                佐野直克
  2.1 MBE法
   2.1.1 はじめに
   2.1.2 MBE
   2.1.3 半導体人工格子の作製方法
   2.1.4 単分子層制御エピタキシー
   2.1.5 おわりに
  2.2 MOCVD法                   金子邦雄
   2.2.1 はじめに
   2.2.2 MOCVD法による半導体人工格子の作製
   2.2.3 MOCVD法で作製した人工格子の評価
   2.2.4 おわりに
  2.3 VPE(気相エピタキシー)法           柳瀬知夫
   2.3.1 はじめに
   2.3.2 VPEの分類
   2.3.3 VPEの特徴
   2.3.4 VPEによって形成されるヘテロ界面の急峻性
   2.3.5 VPEによる人工格子の作製
   2.3.6 今後の展望
 3.半導体人工格子の応用
  3.1 電子素子への応用                 井上正崇
   3.1.1 はじめに
   3.1.2 ヘテロ接合を用いた高速トランジスタ
   3.1.3 半導体人工格子を用いた新機能素子
  3.2 光素子への応用                   今井 元
   3.2.1 はじめに
   3.2.2 半導体レーザーへの応用
   3.2.3 受光素子への応用
   3.2.4 その他の応用

第3章 アモルファス半導体人工格子              広瀬全孝・宮崎誠一
 1.はじめに
 2.アモルファス半導体人工格子の製作
 3.アモルファス半導体人工格子の構造
 4.光学的特性
 5.電気伝導
 6.アモルファス半導体人工格子のデバイス応用
 7.おわりに

第4章 磁性人工格子                     新庄輝也
 1.はじめに
 2.人工格子の生成
 3.Fe-V人工格子
 4.Fe-Mg人工格子
 5.その他の人工格子の報告例
 6.おわりに

第5章 金属人工格子                     山本良一
 1.はじめに
 2.第二次元ジョセフソン結合超伝導体の臨界磁場
 3.その他の研究

第6章 有機人工格子                     齋藤充喜
 1.はじめに
 2.水面上の単分子膜
 3.LB法による累積膜の形成
 4.その他の単分子多層膜形成法
  4.1 水平付着法
  4.2 液相吸着法
  4.3 蒸着法
 5.有機人工格子の応用

第7章 その他の人工格子(インターカレイション)       内田慎一
 1.はじめに
 2.グラファイト・インターカレーション化合物
  2.1 グラファイト
  2.2 挿入物質(インターカラント)
  2.3 ステージ構造
  2.4 合成法
   2.4.1 蒸気反応法(two-bulb法)
   2.4.2 混合法
   2.4.3 加圧法
   2.4.4 電気化学法
   2.4.5 アクセプター型GICの合成
  2.5 電荷移動
  2.6 GICの超伝導と磁性
  2.7 応用
   2.7.1 電池への応用
   2.7.2 水素の貯蔵
   2.7.3 その他の応用
 3.その他のインターカレーション化合物
  3.1 遷移金属ジカルコゲナイド
  3.2 電荷密度波
  3.3 MX2インターカレーション化合物
   3.4 1次元的インターカレーション化合物
    3.4.1 モリブデン・ブロンズ
    3.4.2 転位(Dislocation)に沿っての伝導
 4.おわりに

内容説明

本書は、人工格子の研究に携わっているさまざまな分野の専門家の方々にそれぞれの立場から執筆していただき、人工格子を総括的に眺めることで、人工格子に対するより深い認識と新しい応用の可能性を探ることを意図して企画したものである。

目次

第1章 総論
第2章 半導体人工格子
第3章 アモルファス半導体人工格子
第4章 磁性人工格子
第5章 金属人工格子
第6章 有機人工格子
第7章 その他の人工格子(インターカレーション)

著者等紹介

権田俊一[ゴンダシュンイチ]
大阪大学産業科学研究所を経て、(現)福井工業大学宇宙通信工学科
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。

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