新しいレジスト材料とナノテクノロジー エレクトロニクス材料・技術シリーズ
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新しいレジスト材料とナノテクノロジー エレクトロニクス材料・技術シリーズ

山岡亜夫

  • シーエムシー出版(2002/09発売)
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フォトポリマーの基礎と応用 CMCテクニカルライブラリー
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フォトポリマーの基礎と応用 CMCテクニカルライブラリー

山岡 亜夫【著】

  • シーエムシー出版(2003/03発売)
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ナノテクノロジーとレジスト材料 CMCテクニカルライブラリー
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ナノテクノロジーとレジスト材料 CMCテクニカルライブラリー

山岡 亞夫【監修】

  • シーエムシー出版(2007/04発売)
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高分子工業化学 応用化学シリーズ
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高分子工業化学 応用化学シリーズ

山岡 亜夫【編著】/上田 充/安中 雅彦/鴇田 昌之/高原 茂/岡野 光夫/菊池 明彦/松方 美樹/鈴木 淳史【著】

  • 価格 ¥3,080(本体¥2,800)
  • 朝倉書店(2003/12発売)
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フォトポリマー・テクノロジー
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フォトポリマー・テクノロジー

山岡 亜夫/永松 元太郎【編】

  • 日刊工業新聞社(1988/12発売)
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感光性樹脂 高分子新素材one point
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感光性樹脂 高分子新素材one point

山岡 亜夫/森田 浩【著】

  • 共立出版(1988/05発売)
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実用高分子レジスト材料の新展開
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実用高分子レジスト材料の新展開

山岡 亜夫【監修】

  • シーエムシー出版(1997/01発売)
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情報記録 - 化学的アプローチ 新産業化学シリーズ
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情報記録 - 化学的アプローチ 新産業化学シリーズ

日本化学会【編】/小門 宏/山岡 亜夫【著】

  • 大日本図書(1998/12発売)
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