出版社内容情報
【執筆者一覧（執筆順）】
山岡亜夫 千葉大学 工学部 画像工学科 教授
（現）千葉大学 工学部 情報画像工学科 教授
唐津 孝 千葉大学 工学部 機能材料工学科助教授
（現）千葉大学 工学部 物質工学科 助教授
青合利明 富士写真フィルム（株） 吉田南工場 研究部 主任研究員
近藤俊一 富士写真フィルム（株） 吉田南工場 研究部
内藤和彦 岡本化学工業（株） 研究開発
岡本博明 岡本化学工業（株）
中瀬 真 （株）東芝 材料・デバイス研究所 主任研究員
今橋 聰 東洋紡績（株） 総合研究所 主幹
高橋孝徳 村上スクリーン（株） 技術開発部
（現）（株）ムラカミ 研究開発センター
村上博高 村上スクリーン（株） 取締役技術開発部 統括部長
（現）（株）ムラカミ 常務取締役
岩沢直純 関西ペイント（株） 新事業本部 オプト・エレクトロ事業部
池田章彦 旭化成工業（株） 電子応用研究所 所長
（現）旭化成（株） 半導体材料技術開発部
堀田 豪 大日本印刷（株） 中央研究所 課長補佐
（現）大日本印刷（株） 研究開発・事業化推進本部
坪井當昌 東洋紙業（株） 技術研究所
（現）ADMS TECH Co.,Ltd 日本駐在 常務取締役
長谷部浩史 大日本インキ化学工業（株） 記録材料技術本部
高津晴義 大日本インキ化学工業（株） 記録材料技術本部
高原 茂 千葉大学 工学部 画像工学科 講師
（現）千葉大学 工学部 情報画像工学科 助教授
堀田吉彦 （株）リコー 化成品事業本部 TC事業推進室 課長代理技師
（現）（株）リコー サーマルメディアカンパニー 開発センター
（執筆者の所属は，注記以外は1997年当時のものです）
【構成および内容】
【第１編 フォトポリマーの科学】
第１章 フォトポリマーの基礎 山岡亜夫
１．フォトポリマーの基礎
１．１ フォトポリマーに用いられる基礎反応とクロモフォア
１．２ フォトポリマーの基本反応と分類
１．３ クロモフォアの励起
２．フォトポリマーの感度
２．１ 感度
２．２ 増感
２．３ 増幅
２．４ 感度の具体例
３．感光性物質の具体例
３．１ 光架橋型クロモフォア
３．２ 光重合
第２章 光機能材料を支えるフォトケミストリー 唐津 孝
１．はじめに
２．光誘起電子移動の基礎
２．１ 光誘起電子移動の効率とRehmwellerの式
２．２ Marcusの理論と逆転領域
２．３ 逆電子移動－増感剤と溶媒の効果，添加塩の効果，共増感
２．４ イオンラジカル中間体の反応性
３．光誘起電子移動反応の具体例
３．１ スチルベンと電子受容型オレフィン
３．２ ジフェニルメチルハライド
３．３ アリールエステル（ラジカル対中での電子移動）
３．４ オニウム塩
３．５ アゾ化合物
３．６ ケイ素化合物
４．おわりに
第３章 フォトポリマー材料と要素科学
１．化学反応，物理現象からの分類と材料設計 青合利明
１．１ はじめに
１．２ 物性変化・画像形態からみたフォトポリマー材料の分類
１．３ 構造変化によるフォトレジストの分類とその材料設計
１．３．１ 光架橋型材料
１．３．２ 光重合型材料
１．３．３ 光可溶化型材料
２．高分子マトリックス中での光化学反応の特徴 青合利明
２．１ はじめに
２．２ 光反応分子間の相互作用
２．３ 光反応種，および光反応により生成した活性種の拡散
３．フォトポリマーの感度，感度の定義，測定法 近藤俊一
３．１ フォトポリマー材料の感度
３．２ 光架橋系，光重合系の最高到達感度
３．２．１ 光架橋系
３．２．２ 光重合系
３．３ フォトポリマーの感度の定義
３．３．１ 微細加工レジストの感度表示法
３．３．２ レーザーダイレクト印刷版の感度
３．４ 感度の測定法
４．高感度化の方法と実際 近藤俊一
４．１ はじめに
４．２ 光架橋系フォトポリマーの高感度化
４．３ 光重合型フォトポリマーの高感度化
４．３．１ モノマー，プレポリマー
４．３．２ 光重合開始系
４．３．３ バインダーポリマー
４．３．４ 酵素による重合阻害
４．４ 高感度フォトポリマー材料の実際
【第２編 レジスト材料の最新応用技術】
第１章 金属エッチング用レジスト 内藤和彦・岡本博明
１．はじめに
２．重クロム酸塩系レジスト
３．ポリケイ皮酸ビニル系およびアジド系レジスト
第２章 フォトファブリケーション 内藤和彦・岡本博明
１．はじめに
２．光重合型ドライフィルムレジスト
３．ポジ型レジスト
第３章 リソグラフィ（超微細加工）とレジスト 中瀬 真
１．はじめに
２．リソグラフィ工程
３．リソグラフィと解像力
４．リソグラフィとレジスト材料
５．各種のリソグラフィ
５．１ 光（g/i線）リソグラフィ
５．２ エキシマレーザーリソグラフィ
５．３ 電子ビームリソグラフィ
５．４ Ｘ線リソグラフィ
６．超解像露光技術
７．おわりに
第４章 製版材料とフォトレジスト
１．感光性樹脂凸版／感光性フレキソ版 今橋 聰
１．１ はじめ－
１．２ 構成と樹脂設計
１．２．１ カバーフィルム
１．２．２ 粘着防止層
１．２．３ 感光層
１．２．４ 接着層
１．３ 感光性樹脂凸版
１．３．１ 感光性樹脂組成物
１．３．２ 用途
１．３．３ 将来動向
１．４ 感光性フレキソ版
１．４．１ 溶剤現像型感光性樹脂組成物
１．４．２ 水現像型感光性樹脂組成物
１．４．３ 用途
１．４．４ 将来動向
１．５ 最近の技術動向
１．５．１ 多層化
１．５．２ ダイレクト化
２．平版材料 内藤和彦・岡本博明
２．１ はじめに
２．２ 平版印刷の原理
２．３ PS版の歴史
２．４ ポジ型PS版用材料
２．５ ネガ型PS版用材料
２．６ その他の平版材料
３．スクリーン版レジスト 高橋孝徳・村上博高
３．１ はじめに
３．２ 現在使用されている主なスクリーン版用フォトレジスト
３．２．１ 重クロム酸塩レジスト
３．２．２ ジアゾ樹脂レジスト
３．２．３ スチリルピリジニウム基
３．２．４ 光重合系
３．３ 現状
３．３．１ 硬膜剤による後処理
３．３．２ ウレタン処理
３．３．３ 水以外の現像液を使用するフォトレジスト
３．４ 将来
第５章 レーザー露光用フォトポリマー 今橋 聰
１．はじめに
２．レーザーダイレクト平版
２．１ レーザーダイレクト製版
２．２ オンデマンド印刷との位置づけ
２．３ レーザーの動向
２．４ ダイレクト出力機の動向
２．５ レーザーダイレクト平版の動向
３．フォトポリマー型レーザーダイレクト平版
３．１ 要求性能と構成
３．２ 各層の最近の技術動向
３．３ 今後の課題
第６章 電着レジスト 岩沢直純
１．はじめに
２．エッチングレジストの動向
３．電着レジスト
３．１ 電着型レジストの原理
３．２ 電着レジストの特長
３．３ ネガ型電着レジスト
３．４ ポジ型電着レジスト
４．電着装置と浴管理
４．１ 電着装置
４．２ 浴管理
５．おわりに
第７章 耐熱性フォトポリマー 池田章彦
１．はじめに
２．耐熱性フォトポリマーとその化学
２．１ 最近の感光性ポリイミドの進歩
２．２ 新しい耐熱性フォトポリマー
２．３ 感光性ポリイミドの実際
２．４ 高機能性感光性ポリイミド
３．耐熱性フォトポリマーの応用技術
３．１ マイクロエレクトロニクス分野への応用
３．２ 実装分野への応用展開
３．３ フォトファブリケーション分野への応用
３．４ オプトエレクトロニクス分野への応用
４．おわりに
第８章 ホログラム 堀田 豪
１．はじめに
２．立体視の原理
３．回析効率
４．材料の分類
４．１ 銀塩
４．２ 重クロム酸ゼラチン
４．３ フォトポリマー
５．レリーフホログラム材料
６．体積ホログラム材料
７．発泡型材料
８．ホログラムの応用展開
８．１ フラフィックアーツ用ホログラム
８．２ バーコードスキャナー用ホログラム
８．３ 光ピックアップ用ホログラムレンズ
８．４ カラーフィルター用ホログラム
８．５ ヘッドアップディスプレイ用ホログラム
９．おわりに
第９章 ＵＶ硬化インキ 内藤和彦・岡本博明
１．はじめに
２．ＵＶインキの長所
３．ＵＶインキの短所
４．油性インキとＵＶインキの比較，およびＵＶインキの組成
４．１ プレポリマー
４．２ モノマー
４．３ 光重合開始剤
４．４ 増感剤
５．反応に及ぼす要因
５．１ 発行スペクトルと光開始剤の合致
５．２ 顔料
５．３ 温度
６．ＵＶインキ採用分野
６．１ 金属印刷
６．２ シール，ラベル印刷
６．３ カード印刷
６．４ ビジネスフォーム印刷
６．５ 水無し印刷とフレキソ印刷
７．ＵＶ印刷の今後と改善課題
【第３編 ディスプレイとフォトポリマー】
第１章 カラーフィルター 坪井當昌
１．顔料分散法
２．顔料とその分散
３．光重合開始系と露光
４．バインダーと有機溶剤
５．スピンナー塗布
６．ブラックマトリックスと平坦化層
第２章 ＵＶ硬化樹脂の位相差フィルム(LCD)
１．はじめに
２．UV硬化型液晶
３．位相差フィルムの作製
４．位相差フィルムの基本特性
５．種々の位相差フィルムの作製
５．１ STN（超ねじれ）配向位相差フィルム
５．２ ハイブリッド配向およびホメオフィルム
５．３ 配向パターン化配向位相差フィルム
５．４ その他のフィルム
６．おわりに
【第４編 フォトポリマーの新展開】
第１章 表面光反応と表面機能化 高原 茂
１．はじめに
２．高分子の光による表面改質
３．表面組織体の合成
４．分子配向機能表面
５．表面微小構造
６．マイクロコンタクトプリンティング
第２章 広がりゆく応用 山岡亜夫
１．電着レジスト
２．３次元立体モデルの光モールド
３．表面反応
４．表面イメージング
５．アクリルアミドの表面重合
６．エキシマレーザーによるテフロン表面の改質
７．フォトマイクロカプセルによるワンショットカラー記録
８．コピー用リサイクルトナー
９．フォトポリマーと液晶ディスプレイ
10．偏光露光による異方配向性ポリマー
11．液晶センサー
12．高分子フィルム中での低分子物質の相転移を利用したリライト材料
13．マイクロゲルの表面修飾
14．光ダイシングテープ
15．レジスト光剥離テープ
16．１重項酸素（1Ｏ2）
17．マイクロプリント
第３章 ヒートモード記録の発展 堀田吉彦
１．はじめに
２．熱エネルギーによる記録
２．１ 発色型感熱記録材料
２．２ 熱転写記録材料
３．熱と光エネルギーの併用による記録
３．１ 光定型感熱記録材料
３．２ レーザー加熱記録
３．３ 熱と光を使用したリライタブル記録材料
４．熱エネルギーによるリライタブル記録
４．１ リライタブル記録の定義と要求される特性
４．２ リライタブル熱記録方式の分類と特許状況
４．３ 高分子／長鎖低分子複合タイプ
４．４ 高分子液晶タイプ
４．５ 化学変化タイプ
４．６ 課題
目次
第１編 フォトポリマーの科学（フォトポリマーの基礎；光機能材料を支えるフォトケミストリー ほか）
第２編 レジスト材料の最新応用技術（金属エッチング用レジスト；フォトファブリケーション用レジスト ほか）
第３編 ディスプレイとフォトポリマー（カラーフィルター；ＵＶ硬化樹脂の位相差フィルム（ＬＣＤ））
第４編 フォトポリマーの新展開（表面光反応と表面機能化；広がりゆく応用 ほか）
著者等紹介
山岡亜夫［ヤマオカツグオ］
千葉大学工学部画像工学科教授。現、千葉大学工学部情報画像工学科教授
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。
