実用高分子レジスト材料の新展開

山岡 亜夫【監修】

シーエムシー出版（1997/01発売）

• サイズ B5判／ページ数 336p／高さ 27cm
• 商品コード 9784882311577
• Cコード C3043

内容説明

本書はリソグラフィーによる超微細加工分野での現状と将来についての全貌を簡潔に記述している。また、半導体分野以外でのフォトポリマーの応用、また材料として要求にどのように応えているか、などについても十分に紙面を割き、それぞれの材料ごとに実際に開発に携わった方々により解説されている。

目次

第１編　フォトポリマーの科学
第２編　レジスト材料の最新応用技術
第３編　ディスプレイとフォトポリマー
第４編　フォトポリマーの新展開