内容説明
本書は、これからのギガビット時代に向けて、回路、デバイス、プロセスの多方面にわたり、基礎から考えるものである。
目次
１章 サブ０．１μｍ ＣＭＯＳ‐ＬＳＩのデバイス・回路技術
２章 ＳＩＭＯＸ技術を用いた高性能・低消費電力ＬＳＩ
３章 強誘電体不揮発メモリのプロセスデバイス技術
４章 トンネルゲート酸化膜ＭＯＳＦＥＴ技術
５章 ＳｉＯ２ホール内でのエッチング表面反応
６章 コンピュータと実験を最適に動員するＣＶＤモデリング
７章 酸化マンガン研磨剤を用いたＣＭＰ技術
８章 ＵＬＳＩデバイスにおける埋め込み多層配線技術
９章 Ａｌ系配線の高信頼化技術
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