ＣＭＣテクニカルライブラリー 超高温利用セラミックス製造技術

シーエムシー出版（2003/11発売）

• サイズ A5判／ページ数 275p／高さ 22cm
• 商品コード 9784882318163
• NDC分類 573
• Cコード C3058

出版社内容情報

　【執筆者一覧（執筆順）】

佐多敏之　　　熊本工業大学　工学部
中村哲朗　　　東京工業大学　工学材料研究所
奥冨　衛　　　 電子技術総合研究所　電波電子部
　　　　　　（現）セラテックジャパン（株）　研究開発室
廣瀬全孝　　　広島大学　工学部
　　　　　　（現）（独）産業技術総合研究所　次世代半導体研究センター
入江宏定　　　金属材料技術研究所　溶接研究部
　　　　　　（現）（財）日本溶接技術センター
木島弌倫　　　無機材質研究所　第３研究グループ
　　　　　　（現）京都工芸繊維大学　物質工学科
水野正雄　　　名古屋工業技術試験所　第５部
井上善三郎　 無機材質研究所　第３研究グループ
今中　治　　　 富山職業訓練短期大学校
川澄博通　　　中央大学　理工学部
塚本孝一　　　電子技術総合研究所　電子加工研究室
　　（執筆者の所属は，注記以外は1985年当時のものです）


　【構成および内容】

第１章　超高温技術を応用したファインセラミックス製造技術の現状と動向　　佐多敏之
　１．温度と超高温
　２．高温における固体の蒸発
　３．高温固体からの熱電子放射
　４．超高温における気体の電離
　　４．１　熱電離平衡
　　４．２　プラズマの導電率
　　４．３　超高温気体中の分子種
　５．温度の測定
　　５．１　熱電対
　　５．２　放射温度計
　　５．３　炎の温度測定
　　　５．３．１　線温度測定法
　　　５．３．２　熱電対法
　　　５．３．３　熱量計法
　　　５．３．４　黒体温度比較法
　　　５．３．５　スペクトル法
　　　５．３．６　電離度の測定
　　　５．３．７　その他
　　５．４　炎の温度測定例
　６．超高温の発生とそのセラミックへの応用
　　６．１　燃焼炎
　　６．２　電子流加熱
　　　６．２．１　ヒーターによる抵抗加熱
　　　６．２．２　高周波加熱
　　　６．２．３　電子ビーム加熱
　　６．３　イオン流加熱
　　６．４　電子・イオン粒加熱
　　　６．４．１　アーク加熱
　　　６．４．２　プラズマジェット炎
　　　６．４．３　高周波プラズマ
　　　６．４．４　マイケル波放電
　　６．５　光加熱
　　　６．５．１　太陽炉
　　　６．５．２　イメージ炉
　　　６．５．３　レーザー加熱
　　６．６　衝撃波加熱
　７．おわりに

第２章　ファインセラミックス創成の基礎　　　　　　　　　　　中村哲朗
　１．はじめに
　２．融解性からみたセラミックスにおける化学結合性の特質
　３．凝集エネルギーからみたセラミックスにおける化学結合性の特質
　４．固体のデバイ温度θDと原子間ポテンシャルφ（r）
　　４．１　イオン結合性セラミックスMXにおけるデバイ温度θDの支配因子
　　４．２　共有結合性セラミックスMXにおけるデバイ温度θDの支配因子
　５．固体の融解とその原因
　　５．１　はじめに
　　５．２　Lindemann の融解機構
　　５．３　黒沢の融解機構
　　５．４　Kuhlmann-Wilsdorf の融解機構
　６．熱平衡論的融点Tmおよび熱分解温度Td
　　６．１　イオン結合性セラミックスの融点
　　６．２　共有結合性セラミックスの熱分解温度
　７．おわりに

第３章　レーザによるセラミックス合成と育成技術　　　　　　奥冨　衛
　１．はじめに
　２．レーザ焼結法によるファインセラミックスの創製技術
　　２．１　CO2レーザシステムと照射系
　　２．２　実験試料および方法
　　２．３　レーザ照射による合成課程の観察
　　２．４　単一酸化物；ZrO2，HfO2，Y2O3，の粉末合成
　　２．５　ZrO2-HfO2系セラミックスの合成
　　２．６　ZrO2-Y2O3-HfO2系セラミックスの合成
　　２．７　合成セラミックスの－評価
　３．CO2レーザ光を熱源とした単結晶育成技術
　　３．１　レーザ溶融凝固法による均質固溶体ZrO2-Y2O3単結晶の育成
　　３．２　蒸気圧差の大きいAl2O3-Cr2O3単結晶の育成
　　３．３　レーザ加熱による浮遊帯溶融法からの単結晶育成技術
　　３．４　帯溶融法による平衡状態相の研究
　４．超急冷－非平衡状態での結晶創製技術
　　４．１　高周波プラズマによる粒子製造技術
　　４．２　レーザ熱源による球状粒子の創製技術
　５．高融点非酸化物セラミックスの新創製技術
　　５．１　窒化物の自己進展型反熱合成（SHS）法
　　５．２　SHS法と発熱合成法からのセラミックスの急速創製技術
　　５．３　溶融相介在の非酸化物系セラミックスの合成
　６．おわりに

第４章　レーザCVD法による新機能膜創成技術　　　　　　　廣瀬全孝
　１．はじめに
　２．他技術との比較
　３．レーザ励起プロセスの原理と反応装置および膜形成機構の診断法
　４．膜形成プロセスの実例
　　４．１　SiO2
　　４．２　Al2O3
　　４．３　BN
　５．レーザプロセスの特色，将来性

第５章　電子ビーム，レーザおよびアーク熱源による超微粒子製造技術　　　　入江宏定
　１．はじめに
　２．電子ビーム
　３．レーザ
　４．アーク

第６章　高周波プラズマおよびアークプラズマによるセラミックス合成技術　　　木島弌倫
　１．はじめに
　２．プラズマとセラミックプロセッシング
　　２．１　プラズマとは
　　２．２　プラズマによるプロセッシングの特徴
　　　２．２．１　活性な化学種の利用
　　　２．２．２　プラズマの高温利用
　　　２．２．３　溶急冷効果の利用
　３．単結晶セラミックスの合成
　　３．１　プラズマ加熱ベルヌーイ法
　　３．２　プラズマ加熱チョコラルスキー法
　　３．３　プラズマ加熱帯溶融法
　４．微粉末セラミックスの合成
　　４．１　ガスを原料とするプラズマCVD法
　　　４．１．１　直流／交流アークプラズマCVD法
　　　４．１．２　高周波熱プラズマCVD法
　　４．２　溶液を原料とするプラズマCVD法
　　４．３　固体を原料とするプラズマCVD法
　　　４．３．１　直流／交流アークプラズマCVD法
　　　４．３．２　高周波熱プラズマCVD法
　５．その他のセラミックス合成
　　５．１　非晶質／ガラスの合成
　　５．２　セラミックスのプラズマ焼結
　　５．３　プラズマの熱分解
　６．熱CVDによるα-Si3N4単結晶の合成
　　６．１　単結晶育成方法および反応系の検討
　　６．２　実験
　　６．３　合成温度による影響
　　６．４　窒素／水素モル比の影響
　　６．５　微量酵素分圧の影響
　　６．６　窒化ケイ素単結晶生成最適条件

第７章　太陽炉の応用によるセラミックスの開発技術　　　　　　水野正雄
　１．はじめに
　２．太陽炉
　　２．１　光学系
　　２．２　形式と構造
　　２．３　到達温度
　　２．４　特徴および飼料加熱方法
　３．温度測定
　４．太陽炉の応用
　　４．１　高融点金属酸化物の凝固点測定
　　４．２　高融点材料の溶融合成
　　４．３　高融点材料の蒸発
　　４．４　高温相平衡状態図の研究
　　４．５　その他
　５．おわりに

第８章　セラミックスの結晶構造解析法とその高温利用技術　　　　井上善三郎
　１．はじめに
　２．単結晶X線解析法
　　２．１　X線結晶解析の基礎
　　２．２　X線カメラ法
　　　２．２．１　Bragg反射の原理
　　　２．２．２　ラウエ法
　　　２．２．３　振動写真法・回転写真法
　　　２．２．４　ワイゼンベルグ法
　　　２．２．５　プリセッションカメラ法
　　２．３　四軸型自動回析計
　　　２．３．１　四軸型自動回析計
　　　２．３．２　X線カメラ法と四軸型自動回析計の長短所
　　２．４　結晶構造解析の手法
　　　２．４．１　結晶構造解析の道順
　　　２．４．２　間接法とパタソン法
　　　２．４．３　直接法
　　　２．４．４　結晶構造解析の詰め
　３．高温X線構造解析利用技術
　　３．１　高温X線回析法の現状
　　　３．１．１　高温X線回析法の問題点
　　　３．１．２　高温X線回析のための加熱方法
　　３．２　YAGレーザー高温回析技術
　　　３．２．１　YAGレーザー高温回析技術
　　　３．２．２　YAGレーザー高温回析装置を用いた実験
　　３．３　四軸型回析計の利用技術
　４．おわりに

第９章　ファインセラミックスの評価技術　　　　　　　　　　　今中　治
　１．はじめに
　２．高温での機械的性質の評価
　　２．１　評価項目
　　２．２　強度とそのばらつき
　　２．３　破壊靭性
　４．セラミックスの加工関連特性の評価
　　４．１　表面性状
　　　４．１．１　表面キズ
　　　４．１．２　表面粗さ
　　４．２　加工変質層
　　　４．２．１　クラック層
　　　４．２．２　結晶学的変質層
　　　４．２．３　表面の残留応力
　　４．３　被加工性
　　　４．３．１　粗加工における被加工性
　　　４．３．２　超精密加工における被加工性

第１０章　レーザによる加工，溶接技術
　１．レーザによる加工技術　　　　　　　　　　　　　　　　　川澄博通
　　１．１　はじめに
　　１．２　レーザ光の特徴
　　１．３　レーザ加工の特徴
　　１．４　レーザ加工機の種類と選び方
　　１．５　レーザ加工機
　　　１．５．１　CO2レーザ加工機
　　　１．５．２　YAGレーザ加工機
　　１．６　加工理論（熱伝導論的検討）
　　　１．６．１　穴あけ加工（熱源が深さ方向に移動する場合）
　　　１．６．２　熱応力
　　　１．６．３　切断の場合
　　　１．６．４　彫刻する場合
　　１．７　レーザ加工例
　　　１．７．１　セラミックスの穴あけと切断加工
　　　１．７．２　スクライビング
　　１．８　これからのレーザ応用技術
　　　１．８．１　レーザ促進型化学加工
　　　１．８．２　セラミックス粉末製造法
　２．レーザによる溶接技術　　　　　　　　　　　　　　　　　塚本孝一
　　２．１　はじめに
　　２．２　大気中における溶接
　　　２．２．１　薄板の溶接
　　　２．２．２　レーザービームによる予熱
　　　２．２．３　予熱を行わない溶接
　　　２．２．４　フラックスを用いた溶接
　　２．３　高温雰囲気中での溶接（深溶込溶接）
　　２．４　おわりに

内容説明

本書では、超高温を短時間に、かつ安定に発生・制御し、材料の合成・加工などの研究開発に役立たせようとする技術について、その現状と問題点を明らかにした。まず、超高温材料としてのセラミックスの特性を明らかにした後、基礎技術としての、（１）高周波、アーク、レーザ、太陽炉などによる、超高温の発生技術、（２）高温状態下でのセラミックスの結晶構造解析や機械的性質の評価など、超高温状態の測定・評価技術から、応用技術としての、（３）単結晶、膜、超微粒子などの合成・育成やレーザによる加工・溶接など、超高温利用による材料合成と加工技術までをまとめた。

目次

第１章　超高温技術を応用したファインセラミックス製造技術の現状と動向
第２章　ファインセラミックス創成の基礎
第３章　レーザによるセラミックス合成と育成技術
第４章　レーザＣＶＤ法による新機能膜創成技術
第５章　電子ビーム、レーザおよびアーク熱源による超微粒子製造技術
第６章　高周波プラズマおよびアークプラズマによるセラミックス合成技術
第７章　太陽炉の応用によるセラミックスの開発技術
第８章　セラミックスの結晶構造解析法とその高温利用技術
第９章　ファインセラミックスの評価技術
第１０章　レーザによる加工、溶接技術