出版社内容情報
☆ITO,Zno,In2O3-ZnOなど様々な透明導電膜を網羅！
☆製造法、分析、測定、標準化についても詳述！
☆ディスプレイ、窓ガラス、赤外線カット塗料、コピー機、ガスセンサー、電波吸収フィルムなど多岐の応用を網羅！
構成および内容
＜透明導電膜・材料編＞
第１章 透明導電膜のインパクト
１ 世界が注目する見えない役者たち：身近に存在する応用例
２ 導電性発現の機構：Ｓｎ添加と酸素空孔による自由電子の生成
３ 可視光透過性と赤外線遮蔽：電磁波に対する電子の挙動
４ 製膜法：スパッタリング法
５ 今後のシナリオ：世界中の窓ガラスに透明導電膜を
６ 基礎研究
第２章 ＺｎＯ系透明導電膜
１ ＺｎＯ系透明導電膜の特徴
２ ＺｎＯ系透明導電膜の諸特性と成膜技術
マグネトロンスパッタリング法/ＭＯＣＶＤ法/その他の成膜法
３ ＺｎＯ系透明導電膜の物性
第３章 In2O3-ZnO系透明導電膜
１ ＩＤＩＸＯ膜の特徴
２ ＩＤＩＸＯターゲットの特徴
３ ＩＤＩＸＯ薄膜のエッチング特性
４ ＴＦＴーＬＣＤ用電極の特徴
５ 有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）電極
第４章 Ｇａ添加ＺｎＯ（ＧＺＯ）膜
１ ＧＺＯ膜の成膜方法
２ ＧＺＯ膜の特性
第５章 銀添加ＩＴＯ膜
１ 銀添加ＩＴＯ膜の物性
透明性/結晶性/導電性/微構造
２ 銀添加による導電性向上要因
第６章 ｐ型酸化物透明導電膜
１ ｐ型伝導性透明酸化物の化学設計
具体的課題/価電子帯上端部の非局在化/カチオン種の選択/結晶構造の選択
２ ＣｕＡＩＯ２デラフォサイト薄膜の透明ｐ型伝導性
薄膜の作製/光学的及び電気的性質
３ ＳｒＣｕ２Ｏ２薄膜の透明ｐ型伝導性
薄膜の作製/光学的及び電気的性質
第７章 Ｉｎ４Ｓｎ３Ｏ１２透明導電膜
１ 成膜方法
２ 高周波スパッタ法によるＩｎ２Ｏ３－ ＳｎＯ２系複合酸化物薄膜の作製
３ 直流スパッタ法によるＩｎ４Ｓｎ３Ｏ１２膜の作製
第８章 ＩｎＧａＺｎＯ４透明導電体～材料設計～
１ ＩＴＯの電気抵抗率
有効質量とバンド構造/キャリア密度 とドナーレベル/緩和時間と平均自由行程
２ 新規材料の設計，ＩｎＧａＺｎＯ４の場合
第９章 ＴｉＮ薄膜～透明導電膜への適用可能性～
１ 低抵抗ＴｉＮ薄膜の作製とキャラクタリゼーション
２ 極めて薄い薄膜の作製と透明導電膜への応用
第10章 透明導電材料
１ 導電性粉末
２ 導電性微粉末の構造と製造
３ 導電機構について
電路の形成について/電路の抵抗について/塗布膜のマクロ構造と抵抗について
４ 透明性について
５ 塗料の応用例
ＥＬＰ電極/その他
６ 塗布液への応用例
ＣＲＴディスプレイ/液晶用ミドルコート
第11章 ＩＴＯインク
１ ＩＴＯ微粒子
２ 樹脂バインダー系ＩＴＯ分散インク
３ 無機バインダー系ＩＴＯ分散インク
４ 有機熱分解ＩＴＯインク
第12章 長繊維状酸化錫
＜製造・加工編＞
第13章スパッタリングターゲットの製造
１ ＩＴＯターゲットとはどんなものか？
２ ＩＴＯ焼結体の製造技術
2.1 ＩＴＯの焼結特性
2.2 原料粉末
2.3 成形方法
2.4 焼成方法
ホットプレス．ＨＩＰ/大気中焼成/酸素富化雰囲気焼成/ＩＴＯの焼結メカニズムについて
３ ＩＴＯターゲット製造の難しさ
４ 今後の課題
パーティクルフリー・ターゲット/ＩＴＯ焼結の周辺技術/ＩＴＯの色について
第14章 スパッタ法
１ ＩＴＯ膜の作製方法
２ スパッタ法によるＩＴＯ膜の形成技術
2.1 導入酸素量
2.2 成膜温度
2.3 ターゲット
2.4 低電圧スパッタ法
2.5 低抵抗ＩＴＯ／ＣＦ成膜技術
2.6 非晶質透明導電膜
Ｈ２Ｏ添加による非晶質ＩＴＯ膜/Ｉｎ－Ｚｎ－Ｏ系非晶質透明導電膜
３ 高使用効率カソード
ターゲットの高使用効率化/成膜速度の向上（従来の約４倍）/ロングライフ化
/異状放電対策/全面エロージョン/ターゲット経時変化の緩和
第15章スプレー熱分解法による透明導電膜の作製
１ 二流体式スプレー熱分解法
酸化スズ薄膜の形成/配向性酸化スズ薄膜の低抵抗化/光学的性質
2 超音波スプレー熱分解法
酸化スズ薄膜の形成/酸化スズ薄膜の物理的性質
第16章 塗布法による透明導電膜の作製
１ はじめに
透明導電膜の種類/透明導電膜の作製法/塗布法と真空成膜法
２ 透明導電膜の作製
2.1 原材料
アルコラト/金属錯体/金属塩/コロイド
2.2 塗布液の調整
2.3 塗布・焼成
３ 透明導電膜の構造
焼成過程/ＩＴＯの構造/ＡＴＯの構造
４ 導電特性
Ｉｎ２Ｏ３/ＩＴＯ/ＳｎＯ２，ＡＴＯ（ＳｎＯ２：Ｓｂ）
５ 透明導電膜の光学性能
第17章 透明電極基板フィルムのパターン化
～デジタルレーザーイメージング方式による～
１ 背景
２ プラスチック基板上の透明電極
３ 層構成
４ 光学特性
５ レーザーエッチング
６ 今後の展望
第18章プラスチック基板上への透明導電膜の作製
１ プラスチック基板の特徴
２ 低基板温度でのＩＴＯ薄膜の作製
対向ターゲット式スパッタ法によるＩＴＯ薄膜の低温成膜/低電圧マグネトロンスパッタ法によるＩＴＯ薄膜の作製
第19章 透明導電膜の標準化
１ 分光光度計による光透過率の測定
２ ４探針法による抵抗率測定
３ 触針式表面粗さ計による膜厚測定
第20章 透明導電膜の組成分析
１ 蛍光Ｘ線分析と薄膜ＦＰ法
蛍光Ｘ線の発生/蛍光Ｘ線分析における薄膜/ＦＰ法による薄膜分析
２ 透明導電膜の分析
試料モデルと分析スペクトルの選択/測定条件と測定結果
第21章 非接触抵抗測定
１ 測定原理
２ 性能
抵抗率測定範囲/検出ヘッド/その他の機能/特色
＜応用編＞
第22章 窓ガラスコーティング
１ 透明導電膜材料
金属薄膜/酸化物半導体透明導電膜/非酸化物系化合物薄膜
２ 透明導電膜成膜方法
常圧ＣＶＤ法/スパッター成膜法
３４ 透明導電膜利用ガラス
3.1 導電膜付きガラス
3.2 光制御ガラス
熱線反射ガラス/低放射（Ｌｏｗ－Ｅ）ガラス
第23章 透明性赤外線カット塗料
１ 赤外線カット塗料とは
２ 赤外線カット機構
３ 従来の赤外線カット材料とその問題点
４ 透明性を得るための条件
５ ＩＴＯ粉末の設計
６ 透明性赤外線カット塗料の設計
７ 赤外線カット効果
８ 窓ガラスへの適用
第24章 情報機器
１ 酸化スズ透明導電膜ガラスの製法
２ 酸化スズ透明導電膜ガラスの特性
３ 酸化スズ透明導電膜ガラスの応用
複写機/その他帯電防止材料/電磁波遮蔽材料/透明発熱体/太陽電池基板/遠赤外線反射材料
第25章 ガスセンサー
１ 透明導電膜と薄膜ガスセンサーの作製
２ 材料組成とガス検出特性
３ ガス検出機構とセンサー素子の経時安定性
第26章 液晶および表示素子
１ 透明導電膜の応用例と要求されている特性
２ ＩＴＯ薄膜の構造と電気特性の限界値
３ ＩＴＯ薄膜のエッチングとパターニング
４ 表示素子用透明導電膜の今後の課題
第27章 透明電波吸収体
１ λ／４型電波吸収体
２ 電波吸収体の透明化
３ λ／４型透明電波吸収体とその特性
Ｖ帯用透明電波吸収体/１．５ＧＨｚ帯用透明電波吸収体/Ｘ帯広帯域タイプ（２ピーク型）/１．５ＧＨ ｚ帯２ピーク吸収タイプ
第28章 抵抗膜方式タッチパネル～文字図形入力端末～
１ 抵抗膜式タッチパネルについて
1.1 各種抵抗膜式タッチパネルの概要
1.2 入力原理
回路形成/位置検出
1.3 お手付き入力防止について
２ 基本的な設計仕様と耐久性について
2.1 基本仕様について
可動電極/固定電極/有効入力エリア/トランスファー
2.2 特性
電気的特性/機械的特性/光学的特性/寿命特性
３ 製造法と特徴
3.1 製造工程
４ 抵抗膜方式の課題
（１）ＦＦ型入力パネル開発のための一方策
① ＬＣＤ側での対策
② タッチパネル側での対策
（２）ＩＴＯフィルムの歩留まり
① 高透明タッチパネル
② 高信頼性タッチパネル
第29章 高温発熱ヒーター
ニクロム線が消えたヒーター！/ヒーター革命！/技術概要/特徴/性能/用途/応用
第30章 ＣＲＴ電磁遮蔽反射防止
１ ＶＤＴ規制および要求機能
２ 導電性反射防止膜の形成方法
2.1 ダイレクトコーティング方式
乾式ダイレクトコーティング（ＰＶＤ）方式/湿式スピンコート（ゾルーゲル法）方式
2.2 反射防止膜基材の貼付方式
ＡＲフィルム貼り付け方式/ＡＲ薄板ガラス貼り付け方式
３ 導電性反射防止コートの膜構成とその性能
目次
透明導電膜・材料編（透明導電膜のインパクト；ＺｎＯ系透明導電膜 ほか）
製造・加工編（スパッタリングターゲットの製造；スパッタ法による透明導電膜の作製 ほか）
標準化・分析・測定編（透明導電膜の標準化；透明導電膜の組成分析 ほか）
応用編（窓ガラスコーティング；透明性赤外線カット塗料 ほか）
