内容説明
本書は集積回路プロセス技術シリーズの中の一巻として企画され、ドライエッチング技術を、その基礎から最先端まで集大成してまとめたものであり、１９８０年に同シリーズから刊行された「半導体プラズマプロセス技術」を補完するものである。
目次
超ＬＳＩ技術とドライエッチング
ドライエッチングの基礎
最新のドライエッチング技術（シリコン；化合物半導体）
ドライエッチングとレジスト技術
最新のドライエッチング装置
モデリングとシミュレーション
ドライエッチングと計測
ドライエッチングの新技術
ドライエッチング技術の将来展望
