目次
１章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術
２章 光リソグラフィ技術
３章 電子線リソグラフィ技術
４章 Ｘ線・ＥＵＶリソグラフィ技術
５章 その他のリソグラフィ技術
６章 マスク技術
７章 レジスト技術
８章 計測評価技術
９章 リソグラフィ技術の課題と今後の展望
著者等紹介
岡崎信次［オカザキシンジ］
１９７０年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。１９７０年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９８０年より１年間米国Ｒｅｎｓｓｅｌａｔｅｒ Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉｃ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅに留学。１９９４年東京工業大学より工学博士授与。１９９５年日立製作所半導体事業部、１９９８年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りＡＳＥＴに出向、ＥＵＶ研究室室長としてＥＵＶリソグラフィ技術の研究に従事。２００２年ＡＳＥＴ、ＥＵＶプロセス技術研究部部長に就任し、２００６年日立中研に戻る
鈴木章義［スズキアキヨシ］
１９７３年東京大学物理工学専門課程修士修了。１９７３年キヤノン（株）に入社。現在、ＮＧＬ推進統括部、キヤノンフェロー、ＳＰＩＥフェロー。１９８４年光学論文賞、１９８５年機械振興協会賞、２００５年新機械振興会賞。１９９１年東京大学より工学博士授与
上野巧［ウエノタクミ］
１９７９年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了（理博）。１９７９年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９９５年同社日立研究所、２００１年日立化成工業（株）総合研究所、２００２年日立化成デュポンマイクロシステムズ（株）、２００５年より日立化成工業（株）筑波総合研究所主管研究員（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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