内容説明
コンピュータからメガネレンズまで、薄膜作製技術は欠かせることのできない基盤技術の１つである。にもかかわらず、学問的には体系的に理解されていず、現場の経験と勘に負うところが大きい。デバイス製造の現場においては、日々の問題を解決しつつ、薄膜作製の手法をできるだけ学術的理解に基づいたものとすることが求められている。
目次
第１章 薄膜とは
第２章 薄膜作製技術の基礎
第３章 真空蒸着法
第４章 スパッタリング法
第５章 化学気相成長法
第６章 薄膜の評価技術
第７章 薄膜作製技術の応用
著者等紹介
草野英二［クサノエイジ］
１９８３年神戸大学大学院工学研究科工業化学専攻修士課程修了。同年日本板硝子（株）に入社。筑波研究所に配属。１９８５年から１９８７年まで、Ｖｉｓｉｔｉｎｇ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｓｃｉｅｎｔｉｓｔとして、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｉｌｌｉｎｏｉｓに滞在し、Ｐｒｏｆ．Ｔｈｏｒｎｔｏｎのもとでスパッタリングの研究に従事。９１年、同社事業開発部磁気ディスクグループに異動。９４年３月東京大学より、博士（工学）授与。９４年、（株）曲げグラスセンター出向。９５年、同社を退社し、金沢工業大学工学部助教授。２００１年同教授。０４年から日本真空協会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会部会長。９３年および０１年にスパッタリングおよびプラズマプロセスに関する国際会議実行委員会委員長など。主に薄膜作製プロセスの分野で活躍（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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