目次
第１章 特許法・実用新案法（登録要件；同日出願・外国後書面出願；産業上の利用可能性・拒絶理由の対応 ほか）
第２章 意匠法（登録要件；部分意匠；パリ条約の優先権 ほか）
第３章 商標法（商標法制度；登録商標；立体商標 ほか）
著者等紹介
江口昭彦［エグチアキヒコ］
早稲田大学大学院理工学研究科修了、平成１２年弁理士試験合格、現在ＴＭＩ総合法律事務所勤務
小林伸二［コバヤシシンジ］
慶應義塾大学理工学部卒業、平成１５年弁理士試験合格、現在企業知財部勤務
野田薫央［ノダクニヒサ］
法政大学法学部卒業、平成１６年弁理士試験合格、現在クレオ国際特許事務所勤務
秦正則［ハタマサノリ］
東京理科大学理学部卒業、平成１１年弁理士試験合格、現在ハタ知的財産事務所代表
山田大樹［ヤマダタイジュ］
上智大学理工学部卒業、平成１４年弁理士試験合格、現在（株）ＧＰＣ代表（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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