目次
第１章 薄膜に頼る電子技術の進歩
第２章 薄膜の基礎になる物理常識
第３章 薄膜を作る方法
第４章 薄膜の成長過程、基本特性、評価
第５章 よい薄膜を作る条件
第６章 垂直磁気記録と薄膜
第７章 ＬＳＩ、量子効果デバイスとスピントロニクス
著者等紹介
小林春洋［コバヤシハルヒロ］
大正１４年福島県に生まれる。昭和２４年東北大学電気工学科卒業。昭和３１年東北大学工学部助教授。昭和３１年日本電気（株）入社、電子装置（事）開発部長。昭和４８年日電アネルバ（株）（現、キヤノンアネルバ（株））入社、常務取締役。昭和６０年（株）トーキン、特別顧問。昭和６３年同退職。現在、コンサルタント（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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