目次
第１章 フォトマスク技術の基本
第２章 半導体用フォトマスク
第３章 電子部品用マスク
第４章 先端フォトマスク技術
第５章 ＮＧＬマスク技術
第６章 マスク産業の現状
第７章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し
著者等紹介
田邉功［タナベイサオ］
１９６１年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻（現情報画像工学科）卒業。１９６１‐８１年（株）日立製作所：カラーＴＶ用シャドウマスク、ＩＣ、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（武蔵工場マスク課長）。１９８１‐８９年ＨＯＹＡ（株）：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの事業化（八王子工場長）。１９８９‐９３年ＨＯＹＡ Ｍｉｃｒｏ Ｍａｓｋ Ｉｎｃ．：ＬＳＩ用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発（ＥＶＰ＆ＣＴＯ）
竹花洋一［タケハナヨウイチ］
１９６９年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻（修士）卒業。１９６９‐９０年（株）日立製作所：計測装置の技術開発、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（デバイス開発センター主任技師）。１９９０‐９９年ＨＯＹＡ（株）八王子工場：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの技術開発、生産（八王子工場長）。１９９４‐２００１年ＰＭＪ実行委員。１９９９‐２００４年ＨＯＹＡ（株）Ｒ＆Ｄセンター：次世代マスクの技術開発（担当部長）
法元盛久［ホウガモリヒサ］
１９７４年早稲田大学理工学部物理学科卒業。１９７４‐２０００年（株）日立製作所：半導体用フォトマスクの技術開発、生産（マスクセンター長）。１９９４‐２００６年ＰＭＪ論文委員（２００５‐０６年論文委員長）。２０００‐０２年大日本印刷（株）電子デバイス研究所：半導体用フォトマスクの技術開発（主席研究員）。２００２年～現在、大日本印刷（株）研究開発センター：次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発（プロジェクトリーダー）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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