半導体・ＭＥＭＳのための超臨界流体

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半導体・ＭＥＭＳのための超臨界流体

近藤英一【編著】
価格 ¥3,740（本体¥3,400）
コロナ社（2012/09発売）
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サイズ A5判／ページ数 227p／高さ 21cm
商品コード 9784339008371
NDC分類 549.8
Cコード C3055

１　超臨界流体とマイクロ・ナノプロセス
２　半導体とＭＥＭＳの製造プロセス
３　超臨界乾燥
４　超臨界流体を用いた半導体・ＭＥＭＳ洗浄技術
５　多孔質薄膜と細孔エンジニアリング
６　めっきへの応用
７　化学的薄膜堆積
８　超臨界流体を用いたエッチング加工

著者等紹介

近藤英一［コンドウエイイチ］
１９８５年早稲田大学理工学部金属工学科卒業。１９８７年早稲田大学大学院博士前期課程修了（資源および金属工学専攻）。川崎製鐵株式会社（現ＪＦＥスチール株式会社）勤務。１９９４年川崎製鐵株式会社ハイテク研究所主任研究員。１９９５年博士（工学）（京都大学）。１９９６年ＩＭＥＣ（ベルギー）研究員。１９９７年ＩＭＥＣエキスパート研究員。１９９８年九州工業大学助教授。２０００年山梨大学助教授。２００７年山梨大学教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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