内容説明
基板結晶技術およびエピタキシャル技術、基板結晶やエピタキシャル結晶層のエッチング、金属材料・絶縁材料と界面の物理的化学的性質etc.を体系的に解説。
目次
基板(バルク)結晶技術
エピタキシャル成長技術
清浄表面プロセス技術
化合物半導体の表面及び界面
多重量子井戸の不純物による無秩序化
OEICテクノロジー
基板結晶技術およびエピタキシャル技術、基板結晶やエピタキシャル結晶層のエッチング、金属材料・絶縁材料と界面の物理的化学的性質etc.を体系的に解説。
基板(バルク)結晶技術
エピタキシャル成長技術
清浄表面プロセス技術
化合物半導体の表面及び界面
多重量子井戸の不純物による無秩序化
OEICテクノロジー