格子工学 Lattice Engineering : Technology and Applications

格子工学<br>Lattice Engineering : Technology and Applications

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格子工学
Lattice Engineering : Technology and Applications

Wang, Shumin (EDT)

ウェブストア価格 ¥34,918（本体¥31,744）
Pan Stanford Publishing Pte Ltd（2012/11発売）
外貨定価 US$ 160.00
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製本 Hardcover:ハードカバー版／ページ数 412 p.
言語 ENG
商品コード 9789814316293
DDC分類 621.38152

基本説明

Contains comprehensive reviews of different technologies used to harness lattice mismatch in semiconductor heterostructures and their applications in electronic and optoelectronic devices.

Full Description

This book contains comprehensive reviews of different technologies used to harness lattice mismatch in semiconductor heterostructures and their applications in electronic and optoelectronic devices. It also covers methods such as compliant substrate, selective area growth, wafer bonding, and heterostructure nanowires. Basic knowledge on dislocations in semiconductors and innovative methods to eliminate threading dislocations are provided, and successful device applications are reviewed. It covers important semiconductor materials, epitaxial methods , and devices.

Dislocation Reduction by Interfacial Misfit Method. Compliant Substrates. Selective Area Growth. Low Temperature Direct Wafer Bonding. Heterostructures and Strain Relaxation In Semiconductor Nanowires. Epitaxial Growth of Nitrides. Metamorphic HEMT Technology. Metamorphic Hbts, Metamorphic Quantum Dot Lasers. Metamorphic Quantum Well Lasers. Nitride Based LEDS And Laser Diodes.