Description
(Text)
Zahlreiche Entwicklungsländer laufen Gefahr, vom weltweiten technischen Fortschritt abgekoppelt zu werden. Für diese Länder ist es dringend erforderlich, ihr Instrumentarium für den Technologietransfer aus den OECD-Ländern zu verbessern. Dazu gehört das nationale Patentschutzsystem. In diesem Rahmen stellt die Autorin einen Modellentwurf für die Ausgestaltung eines nationalen Patentschutzsystems in Entwicklungsländern vor. Das Patentschutzsystem ist seit Aufkommen der neuen Technologien zu einer bedeutenden Grundlage des grenzüberschreitenden Technologietransfers geworden. Dies ist einer der Gründe, weshalb die VR China 1985 ein Patentgesetz in Kraft setzte. Doch bislang bleibt die Akzeptanz durch die chinesischen Staatsunternehmen und im westlichen Ausland hinter den Erwartungen zurück.
(Table of content)
Aus dem Inhalt: Das Patentschutzsystem als notwendiges Instrument der nachholenden Technologisierungsstrategie - Modell für ein nationales Patentschutzsystem in der nachholenden Technologisierungsstrategie von Entwicklungsländern - Das Patentschutzsystem der VR China.
(Author portrait)
Die Autorin: Silke Paulwitz wurde 1962 in Reutlingen geboren. Von 1981 bis 1986 studierte sie Politikwissenschaft und Volkswirtschaft an der Indiana University Bloomington/USA und der Freien Universität Berlin. Nach dem Diplom arbeitete die Autorin bei der Deutschen Gesellschaft für Technische Zusammenarbeit und hospitierte im Rahmen dieser Tätigkeit im Chinesischen Patentamt von 1986 bis 1987. Silke Paulwitz promovierte 1991.
