CMOS Gate-Stack Scaling — Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (Mrs Proceedings)

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CMOS Gate-Stack Scaling — Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (Mrs Proceedings)

Demkov, Alexander A. (EDT)/ Taylor, Bill (EDT)/ Harris, H. Rusty (EDT)

ウェブストア価格 ¥24,630（本体¥22,391）
Materials Research Society（2009/11発売）
外貨定価 US$ 119.00
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製本 Hardcover:ハードカバー版／ページ数 194 p.
言語 ENG
商品コード 9781605111285
DDC分類 620.00452

Full Description

To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.