Pulsed and Pulsed Bias Sputtering : Principles and Applications

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Pulsed and Pulsed Bias Sputtering : Principles and Applications

Barnat, Edward V./ Lu, Toh-Ming

ウェブストア価格 ¥23,074（本体¥20,977）
Springer-Verlag New York Inc.（2014/02発売）
外貨定価 US$ 109.99
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製本 Paperback:紙装版/ペーパーバック版／ページ数 157 p.
言語 ENG
商品コード 9781461350637
DDC分類 620

Full Description

Diffusion Barrier Stack - 5 nm -3 nm -2 nm :. : . The adhesion of the barrier to the dielectric, the conformality of the barrier to the feature, the physical structure of the film, and the chemical composition of the film are key issues that are determined in part by the nature of the deposition process.