シリコン熱酸化膜とその界面 - 基礎物性から超LSIへの応用まで

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シリコン熱酸化膜とその界面 - 基礎物性から超LSIへの応用まで

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  • サイズ B5判/ページ数 422p/高さ 27cm
  • 商品コード 9784947655448
  • Cコード C3055

出版社内容情報

編集委員
 谷口研二 大阪大学
執筆者
 西岡泰城 日本テキサス・インスツルメンツ
 大木義路、西川宏之 早稲田大学
 服部健雄 武蔵工業大学
 岩崎裕 大阪大学
 森田悦郎、吉見年弘、桜井真理、島貫康 三菱マテリアル、日本シリコン
 下田高広 東京エレクトロン
 今井馨太郎 東芝
 蒲原史朗 日立製作所
 谷口研二 大阪大学
 鳥海明 東芝
 塩野登 日本電信電話
 塩澤順一、山部紀久夫 東芝
 安田直樹 大阪大学
 高木信一 東芝
 佐野正和 九州電子金属
 穂苅泰明 日本電気
 内田英次 沖電気工業
 鳥海明 東芝
 三橋順一 三菱電機
 堀隆 松下電器産業
 小柳光正 広島大学
 平山誠 三菱電機
 吉川邦良 東芝


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