出版社内容情報
★良い膜を作り、上手くコントロールする、あらゆる【？】に応えます！
損傷,微小欠陥 ・ 接着,密着力 ・ 基板ダメージ ・ 均一性制御 ・ 均質化 ・ 成膜速度 ・ 膜厚制御 ・ 低抵抗 ・ 帯電
・ 大面積成膜 ・ 耐摩擦,耐磨耗 ・ 耐久性 ・ ガス安定供給 ・ 不純物防止 ・ 低温形成 ・ 屈折率制御 ・ 再蒸発防止
第１章 薄膜の損傷・微小欠陥を防ぐには？
第1節 フルオロアルキルアクリレート重合体薄膜dewettingの
発現機構
ダイキン工業（株） 森田 正道 氏
1 パ-フルオロオクチルエチルアクリレ-トホモポリマー（Ｐ17ＦＡ）
薄膜で起こるdewetttingのモルフォロジ-と表面特性
2 dewettingの機構
3 dewettingを防止するために、、、。
第2節 有機超薄膜の凝集構造と表面物性
九州大学 高原 淳 氏
1 有機シラン単分子膜の調製法
2 有機シラン単分子膜の凝集構造
(AFM、電子線回折、GIXD,XRによる評価)
3 有機シラン単分子膜の表面物性
4 多様な表面特性を有する有機シラン単分子膜の調製法
第3節 きれいなスパッタ膜をつくる
ソニー（株） 香取 健二 氏
1 基板前処理 （最終熱処理ではじめてわかる基板問題点）
2 スパッタ成膜 （実験室での欠陥低減）
2-1 パ-ティクル （クリーンルームでも安心禁物）
2-2 残留ガス （ほとんど水分だが）
2-3 膜ストレス （引っ張りより圧縮）
2-4 基板バイアス （RFスパッタ時には注意）
第２章 接着・密着等、付着力を高めるには？
第1節 プラスチック表面に付着力の強い薄膜を成膜するため
の表面処理法
トウプラスエンジニアリング（株） 鈴木 一博 氏
1 物理的粗面化
2 有機中間層塗布
3 無機中間層成膜
4 放電照射
5 光照射
6 化学的修飾
第2節 イオンビームを用いた薄膜の密着性の向上
工学院大学大学院 鷹野 一朗 氏
1 真空蒸着法
2 イオン注入法
3 イオンビームアシスト蒸着法
3-1 イオンビームアシストの原理
3-2 イオンビームアシストによる金属薄膜の密着性の向上
第3節 薄膜の剥離現象と付着性の向上
金沢工業大学 金原 粲 氏
1 付着とは？
2 薄膜の自然剥離
3 薄膜の亀裂（クラック：crack）と皺（リンクル：wrinkle）
4 付着向上のための基本
4-1 基板加熱
4-2 イオン、プラズマ処理
第4節 高機能化のための蒸着法を含む複合表面改質法
茨城大学 池永 勝 氏
1 複合処理プロセスの意義、目的
2 工業的応用、効果
第３章 基材・基板へのダメージを防ぐには？
第1節 ＧａＡｓ基板上へのＩｎＳｂ、ＩｎＡｓの
エピタキシャル成長への格子ミスマッチの影響
旭化成（株） 柴崎 一郎 氏
1 ＩｎＳｂ、ＩｎＡｓ薄膜のＧａＡｓ基板上へのＭＢＥによるエピタキシャ
ル成長
2 InSb、ＩｎＡｓとGaAs基板基板とのヘテロ界面の格子像のＴＥＭ
観察
2-1 ＩｎＳｂ／ＧａＡｓヘテロ界面の観察
2-2 ＩｎＡｓ／ＧａＡｓのヘテロ界面の観察
第2節 薄膜の低温形成技術
松下電器産業（株） 北川 雅俊 氏
1 ペロブスカイト系酸化物薄膜の低温形成
1-1. スパッタによるSrTiO３の低温形成の取り組み
1-1-1 基板電位と基板バイアス効果
1-1-2 オゾン（O３）導入とバイアス印加効果
1-1-3 プラズマ分光法を用いた薄膜低温形成の条件最適化
1-2 イオンビームスパッタ法を用いたＰｂ系強誘電体薄膜の低
温形成
1-2-1 イオンエネルギーの制御
1-2-2 初期成長の格子整合の重要性
1-3 「光エネルギー」を利用した誘電体薄膜低温形成のアプロ
ーチ
1-3-1 電子ビーム蒸着における
イオン・光照射による酸化物薄膜の低温形成
1-3-2 イオンビームエネルギーの利用：
スパッタにおけるイオン・光照射法による誘電体薄膜の
低温形成
1-4 酸化物結晶薄膜の低温形成のまとめ
2 半導体薄膜の低温形成
第４章 膜の均質性を高めるには？密度を低/高めるには？
第1節 イオンビームを用いた膜形成における膜の密度制御
京都大学 石川 順三 氏
1 供給する原子・分子に励起エネルギーを与える
1-1 イオンの励起エネルギーが薄膜形成に及ぼす効果
1-2 イオンの励起エネルギー効果の具体例
2 供給する原子・分子に運動エネルギーを与える
2-1 イオンの運動エネルギーと原子間結合状態の相互作用
2-2 新しい原子間結合反応“運動力結合”
第2節 膜厚の制御と高精度評価
産業技術総合研究所 藤本 俊幸 氏
1 膜厚の均一性制御
2 膜厚の高精度評価法
3 X線反射率法（XRR）
4 断面TEM法（CS-TEM）
第５章 膜質の均一性（不均一性）を高めるには？
第1節 軟Ｘ線多層膜反射ミラー
（株）ニコン 村上 勝彦 氏
1 軟X線多層膜反射ミラー作製のポイント
1-1 周期長の誤差
1-2 界面粗さ
1-3 界面拡散層
1-4 膜厚分布
2 成膜方法
3 周期長制御
4 膜厚分布の制御
第2節 光学薄膜の均質性と不均質性
神戸芸術工科大学 小倉 繁太郎 氏
1 光学薄膜における均質性小史
1-1 反射防止膜
1-2 狭帯域フィルター
1-3 ルゲート・フィルター
2 ＩＡＤ法による酸化物薄膜の屈折率均質性
2-1 ＴｉＯ２膜
2-2 Ｔａ２Ｏ５膜
2-3 Ｎｂ２Ｏ５膜
第3節 反応性励起ビームアシスト法による
高品質化合物薄膜の室温合成
三容真空工業（株） 小川 倉一 氏
1 励起ビームアシストＩＢＳ装置の構成と特性
2 酸素ビーム照射によるＩＴＯ薄膜の作製
3 窒素ビーム照射によるAlN薄膜の合成
第６章 成膜速度を高めるには？
第1節 成膜条件と薄膜の性質
－イオンビーム成膜による高純度薄膜のケース－
（財）新機能素子研究開発協会 大橋 健也 氏
1 イオンビームデポジション法の特徴と成膜条件
1-1 質量分離による高純度化
1-2 イオン照射の役割とイオンエネルギー範囲
1-3 高純度薄膜の成長条件
1-4 イオンビーム輸送系
1-5 イオンビームの減速
2 成膜装置の構成
2-1 全体の構成
2-2 イオン発生部
2-3 質量分離部
2-4 イオン減速部
2-5 成膜部
3 薄膜作製
3-1 鉄薄膜の作製
3-2 ＩＢＤ鉄の耐食性評価
第2節 光学薄膜の成膜における最適化条件
日東真空被膜（株） 平澤 俊和 氏
1 真空蒸着の成膜方法とその性能比較
1-1 従来の真空蒸着の問題点
1-2 ＩＡＤによる成膜
1-3 イオンプレーティングによる成膜
2 真空蒸着においてスループットを高める為の装置の最適化
2-1 真空の質を高める為の最適化
2-2 膜厚分布及び屈折率分布を決める真空槽内の最適化
3 スパッタリングによる成膜
3-1 スパッタリングによる光学薄膜の成膜と問題点
3-2 スパッタリングによる成膜技術の動向
第７章 膜厚精度を高めるには？
第1節 光学薄膜の膜厚制御
オリンパス光学工業（株） 川俣 健 氏
1 膜厚制御の方法
1-1 水晶式膜厚監視
1-2 光学式膜厚監視
2 光学式膜厚監視計の装置構成
3 光学式膜厚監視計の使用方法
3-1 透過式と反射式
3-2 監視波長
3-3 比例制御
第2節 膜厚精度を高めるには？
古河電工（株） 味村 裕 氏
1 光学膜厚制御
1-1 光学膜厚モニタ
1-2 間接型と直視型の光学膜厚モニタ
1-3 モニタ光の波長領域
1-4 停止位置予測成膜制御
2 成膜中の光学膜厚誤差補正
2-1 再設計による膜厚誤差補正
2-2 膜厚誤差自己補正の利用
3 光通信用フィルタへの適用
3-1 利得等化フィルタ
3-2 狭帯域バンドパスフィルタ
第８章 低(電気)抵抗率を達成するには？
第1節 透明導電膜の抵抗率を下げる
兵庫県立工業技術センター 吉岡 秀樹 氏
1 低抵抗率透明導電膜はなぜ必要か？
2 低抵抗率透明導電膜作製のための指針
2-1 低抵抗率ＩＴＯ膜の構造
2-2 結晶性の向上
2-3 組成の均一性
2-4 酸素量の制御
3 ＰＬＤによるＩＴＯ膜の作製実験
第2節 アモルファス透明導電膜の低抵抗化
出光興産（株） 井上 一吉 氏
1 アモルファス透明導電膜
2 アモルファス透明導電膜の特徴
2-1 酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜
（indium Zinc Oxide：IZO）
2-2 ＩＺＯの成膜安定性
2-3 ＩＺＯ薄膜のエッチング特性
2-4 アモルファスＩＴＯの特徴
3 アモルファス透明導電膜の低抵抗化
4 有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）用電極
第3節 低(電気)抵抗率を達成するには？
（株）関西新技術研究所 福井 俊巳 氏
1 液相法ＩＴＯ膜の抵抗値
1-1 ゾル-ゲル法の問題点と対策
1-1-1 原料純度の影響
1-1-2 化学組成の影響
1-1-3 微細構造の与える影響
1-2 光アシストゾル-ゲル法による抵抗化の可能性
第９章 絶縁膜を上手くコントロールするには？
第1節 絶縁膜の帯電防止技術
高砂熱学工業（株） 稲葉 仁 氏
1 静電気障害と帯電防止原理
2 電気抵抗値制御による帯電防止
3 電荷供給による帯電防止技術
3-1 ＵＳＸ照射除電法
3-1-1 イオナイザとＵＳＸ照射除電装置の除電性
3-1-2 除電装置適用時の設計手順
3-1-3 安全対策
3-2 ＶＵＶ照射除電法
3 ＣＶＤプロセスにおける対策例
（静電気障害克服により不良品発生率1/10削減を達成）
第2節 絶縁膜を上手くコントロールするには？
東京大学大学院 鳥海 明 氏
1 ＣＭＯＳ用ゲ-ト絶縁膜薄膜化の動向 -何が求められているか-
2 シリコン酸化膜形成技術
2-1 熱酸化技術（ドライ酸化、ウエット酸化、酸素ラジカル酸化）
3 絶縁膜質の評価基準
3-1 容量評価
3-2 信頼性評価
3-3 物理評価一般
4 シリコン酸化膜を超えたゲート用絶縁膜の取り組み方
第１０章 基板（大面積）に上手く成膜するには？
第1節 溶射法による大面積成膜技術
豊橋技術科学大学 福本 昌宏 氏
1 溶射粒子偏平挙動の理論的記述
2 溶射粒子偏平挙動に対する有効制御因子
3 基材予熱の重要性
第2節 分子配列制御有機薄膜の大面積化
神戸大学 上田 裕清 氏
1 ＰＴＦＥ摩擦転写膜の作成とその構造
2 ＰＴＦＥ摩擦転写膜上の有機分子の構造と光・電子機能
2-1 鎖状分子（パラフィン、ポリシラン）
2-2 平面状分子（フタロシアニン、ポルフィリン）
第3節 化学プロセスによる酸化物超伝導体大面積成膜
（財）国際超電導産業技術研究センター 平林 泉 氏
1 ＭＯＣＶＤにおける大面積成膜の課題とその対策
1-1 酸化物超伝導体用CVD原料
1-2 成膜装置の工夫
1-3 VLS成長 -気相供給のLPE-
2 化学気相法から化学溶液法へ：ＴＦＡ-ＭＯＤ法
2-1 原料
2-2 成膜・焼成
2-3 焼成プロセスのシミュレーション
2-4 大面積成膜
第4節 研究開発の試作における大面積基板への成膜
日本板硝子テクノリサーチ（株） 酒井 千尋 氏，村口 功 氏
1 研究開発における大面積基板への成膜の役割
2 大面積成膜における問題
2-1 成膜の前処理工程
2-2 真空蒸着
2-3 スパッタ
2-4 ＲＦ-ＩＰ成膜
3 よりよい成膜を行うために
第１１章 硬度のコントロール：耐摩擦,耐磨耗性を高めるに
は？
第1節 硬度のコントロール：耐摩擦、耐磨耗性を高めるには？
千葉工業大学 坂本 幸弘 氏
1 ラジカル窒化による表面硬化
2 複合硬化処理
3 ダイヤモンド
4 マイクロ波プラズマＣＶＤによる窒化炭素の合成
第2節 ダイヤモンド薄膜の硬度と耐摩擦特性のコントロール
名古屋工業大学 曽我 哲夫 氏
1 ダイヤモンド薄膜の種類
2 微結晶ダイヤモンド薄膜の成膜
3 微結晶ダイヤモンドの硬度のコントロール
4 微結晶ダイヤモンドの基板との密着性
5 微結晶ダイヤモンドの摩擦係数
第3節 硬度のコントロール：耐摩擦、耐磨耗性を高めるには？
トーカロ（株） 谷 和美 氏
1 特徴あるWCサーメット皮膜の事例
2 耐プラズマエロージョン皮膜
3 耐キャビテーションエロージョン皮膜
4 高温環境下における用途
5 トライボロジ用途に用いるときの考え方
5-1 表面粗さ付与における溶射皮膜の役割
5-2 表面粗さの制御
5-2-1 基材粗さの調整
5-2-2 基材硬さのおよぼす影響
5-2-3 溶射皮膜のもつ固有の表面粗さ
5-2-4 溶射皮膜表面粗さの制御
5-3 耐摩耗溶射皮膜の摩擦係数例
5-4 耐摩耗性を備えた鏡面
第１２章 原料ガスを上手くコントロールするには？
第1節 溶液原料と液体材料気化装置による
誘電体薄膜用ＣＶＤ原料ガスの安定供給
三菱電機（株） 松野 繁 氏
1 誘電体薄膜用ＣＶＤ溶液原料
1-1 金属錯体原料
1-2 溶液原料
2 溶液原料の気化方法
2-1 各種気化方式と問題点
2-2 溶液原料用液体材料気化装置
3 ＢＳＴ、ＰＺＴ薄膜材料の成膜
3-1 ＢＳＴ（ＳＴ）薄膜の成膜
3-2 ＰＺＴ薄膜の成膜
4 誘電体以外の材料への応用
4-1 光通信用石英系導波路膜
4-2 ディスプレイ用蛍光材料
第１３章 不純物・コンタミネーション（異物混入）を防ぐに
は？
第1節 銅の高純度化と薄膜形成
東北大学 一色 実 氏
1 銅の耐酸化性
2 銅の浮遊帯溶融精製
3 マグネトロンスパッタ法による銅薄膜の形成と不純物汚染
4 非質量分離型イオンビームデポジション法による銅薄膜形成
第2節 高周波熱プラズマ法による機能膜の作製
産業技術総合研究所 亀山 哲也 氏
1 人工股関節
2 直流プラズマ溶射による生体適合性セラミック膜の形成
3 高周波プラズマ溶射法による生体適合性セラミック膜の形成
第１４章 その他の問題点・対応策と成膜条件の最適化
第1節 薄膜の分析手法
ソニー（株） 近藤 洋文 氏
1 TOF-SIMS
2 XPS
2-1 膜厚分析
2-2 角度依存 (Angle-Resolved) XPSによる被覆率分析
3 AES(オージェ電子分光)
4 フーリエ変換赤外分光法(FTIR)による表面の解析
4-1 全反射法(Attenuated Total Reflection)
4-2 高感度反射法(Reflection-Absorption Spctroscopy)
5 カーボン保護膜の表面構造解析
5-1 ラマン分光によるカーボン保護膜の解析
5-1-1 ラマン分光によるsp3構造とsp2構造の評価
5-1-2 表面増強ラマン散乱(SERS)
5-1-3 全反射ラマン分光法
5-2 EELSによるカーボン膜のsp3結合含有量
6 接触角による表面エネルギー解析
第2節 膜の屈折率を高くするには？
日産電産コパル（株） 國井 弘毅 氏
1 薄膜の充填密度と屈折率との関係
2 単層膜の特性
2-1 イオンアシスト蒸着（Ｉ.Ａ.Ｄ.）法にて作成した誘電体膜の特性
2-2 反応性イオンプレーティング(R.I.P.)法にて作成した膜の特性
2-3 誘電体膜の屈折率と性質及び成膜条件との関係
3 光学薄膜部品への応用
3-1 光学特性（波長シフト）の改善
3-2 耐久性の向上
3-3 膜応力の積極的な利用
第3節 有機蒸着膜の再蒸発を防ぐには？
東京農工大学 臼井 博明 氏
1 基板表面への化学結合形成
2 膜の高分子化
2-1 共蒸着による膜の安定化
2-2 ラジカル重合による膜の安定化
3 混合蒸着重合による膜の安定化
第4節 薄膜技術を新物質探索に応用するには？
東京工業大学 鯉沼 秀臣 氏，山本 幸生 氏
1 コンビナトリアルケミストリーとマテリアル開発
2 コンビナトリアルテクノロジーの薄膜技術への展開
3 コンビナトリアル薄膜技術の代表的な方法
3-1 コンビナトリアル薄膜技術の代表的な方法
3-2 温度勾配コンビナトリアル
3-3 超格子コンビナトリアル
4 コンビナトリアル評価方法
第5節 薄膜の機能・耐久性に及ぼす表面・界面の役割とは？
（株）豊田中央研究所 多賀 康訓 氏
1 はじめに・・・機能薄膜と産業との係りについて述べる。
2 薄膜の研究・開発方法・・・研究開発の考え方を述べる。
3 表面・界面の役割・・・研究開発と表面・界面との係りについて述
べる。
4 事例・・・具体的表面界面制御事例を示す。
（ＧＭＲセンサ-オ-ミック電極、有機ＥＬディスプレイ）
5 おわりに・・・表面・界面研究と薄膜開発との今後を展望する。
