薄膜作製プロセスにおける成膜条件の最適化 - 事例をあげた問題点と解決手法

  • ポイントキャンペーン

薄膜作製プロセスにおける成膜条件の最適化 - 事例をあげた問題点と解決手法

  • ただいまウェブストアではご注文を受け付けておりません。
  • サイズ B5判/ページ数 400p/高さ 27cm
  • 商品コード 9784906317905

出版社内容情報

★良い膜を作り、上手くコントロールする、あらゆる【?】に応えます!


損傷,微小欠陥 ・ 接着,密着力 ・ 基板ダメージ ・ 均一性制御 ・ 均質化 ・ 成膜速度 ・ 膜厚制御 ・ 低抵抗 ・ 帯電
・ 大面積成膜 ・ 耐摩擦,耐磨耗 ・ 耐久性 ・ ガス安定供給 ・ 不純物防止 ・ 低温形成 ・ 屈折率制御 ・ 再蒸発防止


第1章 薄膜の損傷・微小欠陥を防ぐには?
 第1節 フルオロアルキルアクリレート重合体薄膜dewettingの
発現機構
ダイキン工業(株) 森田 正道 氏

   1 パ-フルオロオクチルエチルアクリレ-トホモポリマー(P17FA)
    薄膜で起こるdewetttingのモルフォロジ-と表面特性
   2 dewettingの機構
   3 dewettingを防止するために、、、。
 第2節 有機超薄膜の凝集構造と表面物性
九州大学 高原 淳 氏


   1 有機シラン単分子膜の調製法
   2 有機シラン単分子膜の凝集構造
    (AFM、電子線回折、GIXD,XRによる評価)
   3 有機シラン単分子膜の表面物性
   4 多様な表面特性を有する有機シラン単分子膜の調製法
 第3節 きれいなスパッタ膜をつくる
ソニー(株) 香取 健二 氏

   1 基板前処理 (最終熱処理ではじめてわかる基板問題点)
   2 スパッタ成膜  (実験室での欠陥低減)
    2-1 パ-ティクル (クリーンルームでも安心禁物)
    2-2 残留ガス (ほとんど水分だが)
    2-3 膜ストレス (引っ張りより圧縮)
    2-4 基板バイアス (RFスパッタ時には注意)

第2章 接着・密着等、付着力を高めるには?
 第1節 プラスチック表面に付着力の強い薄膜を成膜するため
の表面処理法
トウプラスエンジニアリング(株) 鈴木 一博 氏

   1 物理的粗面化
   2 有機中間層塗布
   3 無機中間層成膜
   4 放電照射
   5 光照射
   6 化学的修飾
 第2節 イオンビームを用いた薄膜の密着性の向上
工学院大学大学院 鷹野 一朗 氏

   1 真空蒸着法
   2 イオン注入法
   3 イオンビームアシスト蒸着法
    3-1 イオンビームアシストの原理
    3-2 イオンビームアシストによる金属薄膜の密着性の向上
 第3節 薄膜の剥離現象と付着性の向上
金沢工業大学 金原 粲 氏

   1 付着とは?
   2 薄膜の自然剥離
   3 薄膜の亀裂(クラック:crack)と皺(リンクル:wrinkle)
   4 付着向上のための基本
    4-1 基板加熱
    4-2 イオン、プラズマ処理
 第4節 高機能化のための蒸着法を含む複合表面改質法
茨城大学 池永 勝 氏

   1 複合処理プロセスの意義、目的
   2 工業的応用、効果

第3章 基材・基板へのダメージを防ぐには?
 第1節 GaAs基板上へのInSb、InAsの
エピタキシャル成長への格子ミスマッチの影響
旭化成(株) 柴崎 一郎 氏

   1 InSb、InAs薄膜のGaAs基板上へのMBEによるエピタキシャ
ル成長
   2 InSb、InAsとGaAs基板基板とのヘテロ界面の格子像のTEM
観察
    2-1 InSb/GaAsヘテロ界面の観察
    2-2 InAs/GaAsのヘテロ界面の観察
 第2節 薄膜の低温形成技術
松下電器産業(株) 北川 雅俊 氏

   1 ペロブスカイト系酸化物薄膜の低温形成
    1-1. スパッタによるSrTiO3の低温形成の取り組み
     1-1-1 基板電位と基板バイアス効果
     1-1-2 オゾン(O3)導入とバイアス印加効果
     1-1-3 プラズマ分光法を用いた薄膜低温形成の条件最適化
    1-2 イオンビームスパッタ法を用いたPb系強誘電体薄膜の低
温形成
     1-2-1 イオンエネルギーの制御
     1-2-2 初期成長の格子整合の重要性
    1-3 「光エネルギー」を利用した誘電体薄膜低温形成のアプロ
ーチ
     1-3-1 電子ビーム蒸着における
          イオン・光照射による酸化物薄膜の低温形成
     1-3-2 イオンビームエネルギーの利用:
         スパッタにおけるイオン・光照射法による誘電体薄膜の
低温形成
    1-4 酸化物結晶薄膜の低温形成のまとめ
   2 半導体薄膜の低温形成

第4章 膜の均質性を高めるには?密度を低/高めるには?
 第1節 イオンビームを用いた膜形成における膜の密度制御
京都大学 石川 順三 氏

   1 供給する原子・分子に励起エネルギーを与える
    1-1 イオンの励起エネルギーが薄膜形成に及ぼす効果
    1-2 イオンの励起エネルギー効果の具体例
   2 供給する原子・分子に運動エネルギーを与える
    2-1 イオンの運動エネルギーと原子間結合状態の相互作用
    2-2 新しい原子間結合反応“運動力結合”
 第2節 膜厚の制御と高精度評価
産業技術総合研究所 藤本 俊幸 氏

   1 膜厚の均一性制御
   2 膜厚の高精度評価法
   3 X線反射率法(XRR)
   4 断面TEM法(CS-TEM)

第5章 膜質の均一性(不均一性)を高めるには?
 第1節 軟X線多層膜反射ミラー
(株)ニコン 村上 勝彦 氏

   1 軟X線多層膜反射ミラー作製のポイント
    1-1 周期長の誤差
    1-2 界面粗さ
    1-3 界面拡散層
    1-4 膜厚分布
   2 成膜方法
   3 周期長制御
   4 膜厚分布の制御
 第2節 光学薄膜の均質性と不均質性
神戸芸術工科大学 小倉 繁太郎 氏

   1 光学薄膜における均質性小史
    1-1 反射防止膜
    1-2 狭帯域フィルター
    1-3 ルゲート・フィルター
   2 IAD法による酸化物薄膜の屈折率均質性
    2-1 TiO2膜
    2-2 Ta2O5膜
    2-3 Nb2O5膜
 第3節 反応性励起ビームアシスト法による
高品質化合物薄膜の室温合成
三容真空工業(株) 小川 倉一 氏

   1 励起ビームアシストIBS装置の構成と特性
   2 酸素ビーム照射によるITO薄膜の作製
   3 窒素ビーム照射によるAlN薄膜の合成

第6章 成膜速度を高めるには?
 第1節 成膜条件と薄膜の性質
     -イオンビーム成膜による高純度薄膜のケース-
(財)新機能素子研究開発協会 大橋 健也 氏

   1 イオンビームデポジション法の特徴と成膜条件
    1-1 質量分離による高純度化
    1-2 イオン照射の役割とイオンエネルギー範囲
    1-3 高純度薄膜の成長条件
    1-4 イオンビーム輸送系
    1-5 イオンビームの減速
   2 成膜装置の構成
    2-1 全体の構成
    2-2 イオン発生部
    2-3 質量分離部
    2-4 イオン減速部
    2-5 成膜部
   3 薄膜作製
    3-1 鉄薄膜の作製
    3-2 IBD鉄の耐食性評価
 第2節 光学薄膜の成膜における最適化条件
日東真空被膜(株) 平澤 俊和 氏


   1 真空蒸着の成膜方法とその性能比較
    1-1 従来の真空蒸着の問題点
    1-2 IADによる成膜
    1-3 イオンプレーティングによる成膜
   2 真空蒸着においてスループットを高める為の装置の最適化
    2-1 真空の質を高める為の最適化
    2-2 膜厚分布及び屈折率分布を決める真空槽内の最適化
   3 スパッタリングによる成膜
    3-1 スパッタリングによる光学薄膜の成膜と問題点
    3-2 スパッタリングによる成膜技術の動向

第7章 膜厚精度を高めるには?
 第1節 光学薄膜の膜厚制御
オリンパス光学工業(株) 川俣 健 氏

   1 膜厚制御の方法
    1-1 水晶式膜厚監視
    1-2 光学式膜厚監視
   2 光学式膜厚監視計の装置構成
   3 光学式膜厚監視計の使用方法
    3-1 透過式と反射式
    3-2 監視波長
    3-3 比例制御
 第2節 膜厚精度を高めるには?
古河電工(株) 味村 裕 氏

   1 光学膜厚制御
    1-1 光学膜厚モニタ
    1-2 間接型と直視型の光学膜厚モニタ
    1-3 モニタ光の波長領域
    1-4 停止位置予測成膜制御
   2 成膜中の光学膜厚誤差補正
    2-1 再設計による膜厚誤差補正
    2-2 膜厚誤差自己補正の利用
   3 光通信用フィルタへの適用
    3-1 利得等化フィルタ
    3-2 狭帯域バンドパスフィルタ

第8章 低(電気)抵抗率を達成するには?
 第1節 透明導電膜の抵抗率を下げる
兵庫県立工業技術センター 吉岡 秀樹 氏

   1 低抵抗率透明導電膜はなぜ必要か?
   2 低抵抗率透明導電膜作製のための指針
    2-1 低抵抗率ITO膜の構造
    2-2 結晶性の向上
    2-3 組成の均一性
    2-4 酸素量の制御
   3 PLDによるITO膜の作製実験


第2節 アモルファス透明導電膜の低抵抗化
出光興産(株) 井上 一吉 氏

   1 アモルファス透明導電膜
   2 アモルファス透明導電膜の特徴
    2-1 酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜
(indium Zinc Oxide:IZO)
    2-2 IZOの成膜安定性
    2-3 IZO薄膜のエッチング特性
    2-4 アモルファスITOの特徴
   3 アモルファス透明導電膜の低抵抗化
    4 有機エレクトロルミネッセンス(EL)用電極
 第3節 低(電気)抵抗率を達成するには?
(株)関西新技術研究所 福井 俊巳 氏

   1 液相法ITO膜の抵抗値
    1-1 ゾル-ゲル法の問題点と対策
     1-1-1 原料純度の影響
     1-1-2 化学組成の影響
     1-1-3 微細構造の与える影響
    1-2 光アシストゾル-ゲル法による抵抗化の可能性

第9章 絶縁膜を上手くコントロールするには?
 第1節 絶縁膜の帯電防止技術
高砂熱学工業(株) 稲葉 仁 氏

   1 静電気障害と帯電防止原理
   2 電気抵抗値制御による帯電防止
   3 電荷供給による帯電防止技術
    3-1 USX照射除電法
     3-1-1 イオナイザとUSX照射除電装置の除電性
     3-1-2 除電装置適用時の設計手順
     3-1-3 安全対策
    3-2 VUV照射除電法
   3 CVDプロセスにおける対策例
    (静電気障害克服により不良品発生率1/10削減を達成)
 第2節 絶縁膜を上手くコントロールするには?
東京大学大学院 鳥海 明 氏

   1 CMOS用ゲ-ト絶縁膜薄膜化の動向 -何が求められているか-
   2 シリコン酸化膜形成技術
    2-1 熱酸化技術(ドライ酸化、ウエット酸化、酸素ラジカル酸化)
   3 絶縁膜質の評価基準
    3-1 容量評価
    3-2 信頼性評価
    3-3 物理評価一般
   4 シリコン酸化膜を超えたゲート用絶縁膜の取り組み方

第10章 基板(大面積)に上手く成膜するには?
 第1節 溶射法による大面積成膜技術
豊橋技術科学大学 福本 昌宏 氏

   1 溶射粒子偏平挙動の理論的記述
   2 溶射粒子偏平挙動に対する有効制御因子
   3 基材予熱の重要性
 第2節 分子配列制御有機薄膜の大面積化
神戸大学 上田 裕清 氏

   1 PTFE摩擦転写膜の作成とその構造
   2 PTFE摩擦転写膜上の有機分子の構造と光・電子機能
    2-1 鎖状分子(パラフィン、ポリシラン)
    2-2 平面状分子(フタロシアニン、ポルフィリン)
 第3節 化学プロセスによる酸化物超伝導体大面積成膜
(財)国際超電導産業技術研究センター 平林 泉 氏

   1 MOCVDにおける大面積成膜の課題とその対策
    1-1 酸化物超伝導体用CVD原料
    1-2 成膜装置の工夫
    1-3 VLS成長 -気相供給のLPE-
   2 化学気相法から化学溶液法へ:TFA-MOD法
    2-1 原料
    2-2 成膜・焼成
    2-3 焼成プロセスのシミュレーション
    2-4 大面積成膜
 第4節 研究開発の試作における大面積基板への成膜
日本板硝子テクノリサーチ(株) 酒井 千尋 氏,村口 功 氏

   1 研究開発における大面積基板への成膜の役割
   2 大面積成膜における問題
    2-1 成膜の前処理工程
    2-2 真空蒸着
    2-3 スパッタ
    2-4 RF-IP成膜
   3 よりよい成膜を行うために

第11章 硬度のコントロール:耐摩擦,耐磨耗性を高めるに
は?
 第1節 硬度のコントロール:耐摩擦、耐磨耗性を高めるには?
千葉工業大学 坂本 幸弘 氏

   1 ラジカル窒化による表面硬化
   2 複合硬化処理
   3 ダイヤモンド
   4 マイクロ波プラズマCVDによる窒化炭素の合成
 第2節 ダイヤモンド薄膜の硬度と耐摩擦特性のコントロール
名古屋工業大学 曽我 哲夫 氏

   1 ダイヤモンド薄膜の種類
   2 微結晶ダイヤモンド薄膜の成膜
   3 微結晶ダイヤモンドの硬度のコントロール
   4 微結晶ダイヤモンドの基板との密着性
   5 微結晶ダイヤモンドの摩擦係数
 第3節 硬度のコントロール:耐摩擦、耐磨耗性を高めるには?
トーカロ(株) 谷 和美 氏

   1 特徴あるWCサーメット皮膜の事例
   2 耐プラズマエロージョン皮膜
   3 耐キャビテーションエロージョン皮膜
   4 高温環境下における用途
   5 トライボロジ用途に用いるときの考え方
    5-1 表面粗さ付与における溶射皮膜の役割
    5-2 表面粗さの制御
     5-2-1 基材粗さの調整
     5-2-2 基材硬さのおよぼす影響
     5-2-3 溶射皮膜のもつ固有の表面粗さ
     5-2-4 溶射皮膜表面粗さの制御
    5-3 耐摩耗溶射皮膜の摩擦係数例
    5-4 耐摩耗性を備えた鏡面

第12章 原料ガスを上手くコントロールするには?
 第1節 溶液原料と液体材料気化装置による
誘電体薄膜用CVD原料ガスの安定供給
三菱電機(株) 松野 繁 氏

   1 誘電体薄膜用CVD溶液原料
    1-1 金属錯体原料
    1-2 溶液原料
   2 溶液原料の気化方法
    2-1 各種気化方式と問題点
    2-2 溶液原料用液体材料気化装置
   3 BST、PZT薄膜材料の成膜
    3-1 BST(ST)薄膜の成膜
    3-2 PZT薄膜の成膜
   4 誘電体以外の材料への応用
    4-1 光通信用石英系導波路膜
    4-2 ディスプレイ用蛍光材料

第13章 不純物・コンタミネーション(異物混入)を防ぐに
は?
 第1節 銅の高純度化と薄膜形成
東北大学 一色 実 氏

   1 銅の耐酸化性
   2 銅の浮遊帯溶融精製
   3 マグネトロンスパッタ法による銅薄膜の形成と不純物汚染
   4 非質量分離型イオンビームデポジション法による銅薄膜形成
 第2節 高周波熱プラズマ法による機能膜の作製
産業技術総合研究所 亀山 哲也 氏

   1 人工股関節
   2 直流プラズマ溶射による生体適合性セラミック膜の形成
   3 高周波プラズマ溶射法による生体適合性セラミック膜の形成

第14章 その他の問題点・対応策と成膜条件の最適化
 第1節 薄膜の分析手法
ソニー(株) 近藤 洋文 氏

   1 TOF-SIMS
   2 XPS
    2-1 膜厚分析
    2-2 角度依存 (Angle-Resolved) XPSによる被覆率分析
   3 AES(オージェ電子分光)
   4 フーリエ変換赤外分光法(FTIR)による表面の解析
    4-1 全反射法(Attenuated Total Reflection)
    4-2 高感度反射法(Reflection-Absorption Spctroscopy)
   5 カーボン保護膜の表面構造解析
    5-1 ラマン分光によるカーボン保護膜の解析
     5-1-1 ラマン分光によるsp3構造とsp2構造の評価
     5-1-2 表面増強ラマン散乱(SERS)
     5-1-3 全反射ラマン分光法
    5-2 EELSによるカーボン膜のsp3結合含有量
   6 接触角による表面エネルギー解析
 第2節 膜の屈折率を高くするには?
日産電産コパル(株) 國井 弘毅 氏

   1 薄膜の充填密度と屈折率との関係
   2 単層膜の特性
    2-1 イオンアシスト蒸着(I.A.D.)法にて作成した誘電体膜の特性
    2-2 反応性イオンプレーティング(R.I.P.)法にて作成した膜の特性
    2-3 誘電体膜の屈折率と性質及び成膜条件との関係
   3 光学薄膜部品への応用
    3-1 光学特性(波長シフト)の改善
    3-2 耐久性の向上
    3-3 膜応力の積極的な利用
 第3節 有機蒸着膜の再蒸発を防ぐには?
東京農工大学 臼井 博明 氏

   1 基板表面への化学結合形成
   2 膜の高分子化
    2-1 共蒸着による膜の安定化
    2-2 ラジカル重合による膜の安定化
   3 混合蒸着重合による膜の安定化
 第4節 薄膜技術を新物質探索に応用するには?
東京工業大学 鯉沼 秀臣 氏,山本 幸生 氏

   1 コンビナトリアルケミストリーとマテリアル開発
   2 コンビナトリアルテクノロジーの薄膜技術への展開
   3 コンビナトリアル薄膜技術の代表的な方法
    3-1 コンビナトリアル薄膜技術の代表的な方法
    3-2 温度勾配コンビナトリアル
    3-3 超格子コンビナトリアル
   4 コンビナトリアル評価方法
 第5節 薄膜の機能・耐久性に及ぼす表面・界面の役割とは?
(株)豊田中央研究所 多賀 康訓 氏

   1 はじめに・・・機能薄膜と産業との係りについて述べる。
   2 薄膜の研究・開発方法・・・研究開発の考え方を述べる。
   3 表面・界面の役割・・・研究開発と表面・界面との係りについて述
べる。
   4 事例・・・具体的表面界面制御事例を示す。
          (GMRセンサ-オ-ミック電極、有機ELディスプレイ)
   5 おわりに・・・表面・界面研究と薄膜開発との今後を展望する。

最近チェックした商品