目次
特許法・実用新案法（特許法の目的；特許出願の主体・客体；特許要件 ほか）
意匠法（意匠法の目的；意匠とは何か；意匠の類似 ほか）
商標法（総則；商標登録及び商標登録出願；審査 ほか）
著者等紹介
生駒正文［イコママサフミ］
駒沢大学大学院法学研究科博士課程修了（知的財産法専攻）。現職、吉備国際大学・大学院知的財産学研究科（通信制）併任教授。大阪簡易裁判所民事調停委員、日本経営実務法学会理事長
崎山博教［サキヤマヒロノリ］
関西大学大学院工学研究科化学工学専攻修了。現職、ザック国際特許事務所所長。大阪経済法科大学法学部非専任講師。大阪市産業創造館経営相談室登録専門家
本田史樹［ホンダフミキ］
吉備国際大学大学院知的財産学研究科修士課程修了。現職、特許業務法人クレイア特許事務所。京都工芸繊維大学非常勤講師。ＴＡＣ弁理士講座専任講師
藤本真人［フジモトマサト］
神戸大学大学院自然科学研究科修士課程修了。吉備国際大学大学院知的財産学研究科修士課程修了。現職、国立研究開発法人産業技術総合研究所産学官・国際連携推進部主査
謝博超［シャハクチョウ］
大阪工業大学大学院知的財産研究科修了。現職、特許業務法人ＨＡＲＡＫＥＮＺＯ ＷＯＲＬＤ ＰＡＴＥＮＴ＆ＴＲＡＤＥＭＡＲＫ法務部著作権支援室主席。大阪工業大学大学院弁理士受験会講師（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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