ＣＭＣテクニカルライブラリー エレクトロニクス薄膜技術

白木 靖寛【監修】

シーエムシー出版（2008/05発売）

• サイズ A5判／ページ数 253p／高さ 22cm
• 商品コード 9784882319931
• NDC分類 549.8
• Cコード C3054

目次

第１章　薄膜作製技術の歴史と意義
第２章　計算化学による結晶成長制御手法
第３章　常圧プラズマＣＶＤ技術とその応用
第４章　ラダー電極を用いたＶＨＦプラズマ応用薄膜形成技術
第５章　触媒化学気相堆積法とその応用
第６章　コンビナトリアルテクノロジー―集積化薄膜技術による材料開発の革新
第７章　パルスパワー技術と応用
第８章　半導体薄膜の作製
第９章　ナノ構造磁性薄膜の作製とスピントロニクスへの応用
第１０章　強誘電体薄膜の作製とメモリ素子への応用

著者等紹介

白木靖寛［シラキヤスヒロ］
（現）武蔵工業大学副学長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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