目次
液浸リソグラフィーとは
液浸露光用塗布現像装置
レチクル技術
液浸リソグラフィの光学系
液浸露光装置の開発
液浸用レジストの開発
液浸用トップコート材料
液浸レジスト材料の評価
含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用
偏光照明技術
高NA投影レンズの開発
次世代液浸露光用高屈折率液体の開発
次世代液浸リソグラフィの光学系
32mmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開
著者等紹介
東木達彦[ヒガシキタツヒコ]
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部リソグラフィ技術開発第三担当グループ長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。
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