出版社内容情報
構成および内容
はじめに
渡辺順次
第１章 総論
1 カラーフィルタ形成法の課題
島 康裕
1-1
カラーフィルタの構造および要求特性
透明基板／ブラックマトリクス（BM）／カラーフィルタ層（CF）／保護膜／透明導電膜
1-2
カラーフィルターの各種製造法の課題
2 カラーフィルターの分光特性
渡邊 苞
2-1
色再現の方向
色再現に必要な物体の色度域／3原色と白色バランス
2-2
フィルタの分光特性
2-3
現在の光源用フィルタの改善方向
青フィルタ／緑フィルタ／赤フィルタ
2-4
フィルタとバックライト用光源の改善目標
フィルタの改善／光源の開発／消偏効果
第２章 カラーフィルター形成法とケミカルス
1 染料溶解法
古川忠宏
1-1
製造方法
色材塗布／色材プレベーク／フォトレジスト塗布／露光・現像／フォトレジスト剥離，ポストベーク／3色繰り返し／オーバ
ーコートを塗布
1-2
カラーフィルターの特性
分光特性およびコントラスト／染色フィルターとの差について
1-3
耐光性について
試験方法／染料の構造と耐光性の関係／濃度と耐光性の関係／染料カラーフィルターの耐光性向上
1-4
反射LCD用カラーフィルターへの応用
2 印刷法
渡邊 苞
2-1
平版オフセット印刷（オフセットと略）の製造工程
2-2
ガラス基板受け入れ
2-3
インキ製造
2-4
製版
2-5
印刷機
2-6
ブランケットの表面平坦化
2-7
印圧の均一化
2-8
その他
2-9
平坦化
3 顔料分散法
松嶋欽爾，泉田和夫
3-1
カラーフィルターの基本構成
3-2
顔料分散法カラーフィルター
着色感材法／顔料の微粒化と分散
3-3
今後の展望
4 電着法・ミセル電解法
倉田英明
4-1
電着法カラーフィルター
電着法の原理／電着法製造プロセス／電着法の特徴／電着法の課題
4-2
出光ミセル電解法カラーフィルター
基本原理／製造プロセス／ミセル電解カラーフィルターの特徴
4-3
C／F on TFTアレイへの応用
5 着色フィルム（ドライフィルム）転写法
佐藤守正
5-1
TRANSER 転写材料
5-2
作製プロセス
ラミネート工程／仮支持体剥離工程／露光工程／現像工程／ブラックマトリックス作製
5-3
凹凸追従法
5-4
セルフアライメント法によるブラック画像の形成
黒色感光性転写材料について／RGB画素の紫外線遮蔽性
5-5
その他の特徴
欠陥修正法／大サイズ化が可能／その他の性能
6 次世代カラーフィルター形成法
郡 浩武，新居崎信也
6-1
カラーフィルタ・オン・アレイ法
6-2
イオンプレーティング法
6-3
インクジェット法
6-4
レーザおよび焼き付け法
第３章 カラーフィルター形成用ケミカルスと色素
1 印刷法用ケミカルス
渡邊 苞
1-1
インキの製造
顔料および染料／ビヒクル／溶剤／その他の添加剤／インキの混練
1-2
インキの検定
粘度／タッキネス／顕微鏡観察／耐熱性およびガスクロマトグラフ／保存
2 顔料分散法用ケミカルス
板野考史，飯島孝浩，根本宏明
2-1
顔料分散レジストの種類
アクリル系ラジカル重合型／水溶媒型／ナフトキノンジアジド（NQD）感光剤型／化学増幅型
2-2
アクリル系ラジカル重合型顔料
分散レジストの構成／顔料／バインダー樹脂／多価アクリル，光ラジカル発生剤／溶剤，各種添加剤／BLACK レジスト
第４章 ブラックマトリックス形成法とケミカルス
1 Cr系BM形成法とケミカルス
戸田 誠
1-1
概要
1-2
種類と特徴
1-3
形成法
1-4
Cr-BMの物性とケミカルス
1-5
Cr-BMの現状の課題と将来動向
2 樹脂系BM形成法とケミカルス
桜井雄三
2-1
樹脂系BMに対する要求特性
2-2
ポリイミド系材料によるBM形成
2-3
感光性樹脂BM材料
2-4
樹脂系BM材料の今後の課題
3 樹脂BM形成法（無電解めっきとケミカルス）
泉田和夫
無電解めっきによるBM形成
BMの要求特性／BMの分類／プロセスの概要／無電解NiめっきBMの特性
4 黒鉛BM形成法とケミカルス
千代田博宜，白髭 稔
4-1
黒鉛BMの分類と原理
黒鉛BMの分類／BM形成の原理
4-2
黒鉛BM塗料と材料
黒鉛BM塗料／黒鉛BM用黒鉛微粒子／黒鉛BM用熱硬化性樹脂
4-3
黒鉛BMの形成法
黒鉛BMリフトオフ法／黒鉛BMエッチング法
4-4
黒鉛BMの特性
第５章 保護膜形成法とケミカルス
寺本武郎
1
概要
2
市場動向
3
保護膜の必要特性
4
保護膜の開発状況
第６章 レジスト塗布法
1 スリット＆スピン方式
木瀬一夫，谷口由雄
1-1
従来塗布方式の課題と対策例
1-2
塗布装置「SF-700 ／800 」
1-3
「スリット＆スピン」塗布方式
1-4
「スリット＆スピン」方式周辺技術
1-5
効果
2 エクストルージョン方式
田島高広
2-1
Fasコーターの基本原理
2-2
エッジビードの評価
2-3
基板の凹凸が膜厚に及ぼす影響
2-4
結論
第７章 大型カラーフィルターへのITO成膜技術
石橋 暁
1
低抵抗ITO／CF成膜技術
ITOの作製法／要求特性と問題点／低電圧スパッタ法／低温成膜プロセス／BMの補助配線効果
2
低反射BM成膜技術
Cr系積層型BM膜／脱CrスパッタBM膜
3
スパッタ装置
ITO用インライン装置／BM用インライン装置
第８章 大型カラーフィルタの検査システム
田辺伸一
1
検査システムの状況
2
カラーフィルタにおける主な欠陥の種類
3
検査方法について
3-1
1次元ラインイメージセンサを利用した欠陥検出
dei to dei検査／dei to database 検査／cell shift検査
3-2
レーザ散乱による欠陥検査
4
検査装置について
基板サイズ／透過検査（透過ヘッド）／反射検査（反射ヘッド）／突起検査（散乱ヘッド）／欠陥検出能力／検査処理時間
5
カラーフィルタ製造ラインにおける検査システム
6
歩留まりの向上のために
7
突起欠陥修正装置について
8
今後の装置の研究・開発について
第９章 カラーフィルターの信頼・品質評価
渡邊 苞
1
分光透過率
2
消偏効果測定法
3
耐熱性試験法
4
耐光性試験法
5
耐薬品性測定法
6
CF表面の硬度と接着性測定法
7
白ボツと黒ボツ（ピンホール）
8
表面の平坦性測定法
9
パターン位置精度
第10章 カラーフィルターの市場
シーエムシー編集部
1
カラーフィルターの市場動向
カラーフィルター用顔料分散レジスト／カラーフィルター用顔料，染料／ブラックマトリクス材料／オーバーコート剤
2
メーカー動向
カラーフィルター／カラーフィルター用顔料分散レジスト／カラーフィルター用顔料，染料／ブラックマトリクス用クロムターゲッ
ト／ブラックマトリクス用黒色レジスト／カラーフィルター用オーバーコート剤
第11章 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許動向
1 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許（1973～1994年）
シーエムシー編集部
1-1
カラーフィルター製造技術の分類
1-2
画素形成技術と特許の展開
染色法／印刷法／顔料分散法／電着法／着色フィルム転写法／ミセル電解法／電子写真法／インクジェット法／染料分
散法／熱転写法／ゾルゲル法／カラー銀塩写真法／蒸着法／その他の形成法
1-3
画素形成用ケミカルスと特許の展開
画素組成物の技術と特許の展開／画素組成物特許の企業動向／色素の技術と特許の展開／色素特許の企業動向
1-4
画素以外の構成要素と特許の展開
ブラックマトリクス（BM）／保護膜
1-5
企業の特許展開
1-6
参考資料
2 最新('94～'96年）カラーフィルター特許，主要10社の動向
吾孫子輝一郎
2-1
最新('94～'96年）カラーフィルター特許出願動向
2-2
主要10社の全分野出願件数と液晶関連カラーフィルター分野出願件数の推移
2-3
主要10社の94～96年の総出願件数と発明者総数および発明者リスト
内容説明
本書は、初めて発刊されるカラーフィルター技術の成書であり、周辺技術の展開を集約するものである。
目次
第１章 総論
第２章 カラーフィルター形成法とケミカルス
第３章 カラーフィルター形成用ケミカルスと色素
第４章 ブラックマトリックス形成法とケミカルス
第５章 保護膜形成法とケミカルス
第６章 レジスト塗布法
第７章 大型カラーフィルターへのＩＴＯ成膜技術
第８章 大型カラーフィルタの検査システム
第９章 カラーフィルターの信頼・品質評価
第１０章 カラーフィルターの市場
第１１章 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許動向
