出版社内容情報
執筆者一覧
（所属は１９９２年３月時点。カッコ内は２０００年７月現在）
角田光雄 東京家政学院大学 家政学部（現・文化女子大学 服装学部）
斉木 篤 日立プラント建設（株） 空調プラント事業本部
山本芳彦 （株）東芝 総合研究所
大部一夫 ライオン（株） 研究開発本部
平塚 豊 日立プラント建設（株） 空調プラント事業本部（現・（株）ダン科学研究開発本部）
伊藤隆司 （株）富士通 厚木研究所
内田達也 日立化成テクノプラント（株） 開発部
阪田重信 （株）ケミカルテクノロジー研究所
千原眞知夫 荒川化学工業（株） 研究所 アルファプロジェクト室（現・研究部）
井手 哲 ダイキン工業（株） 化学事業部
北村健郎 旭硝子（株） 中央研究所（現・機能化学品事業本部 化学品事業研究所生産技術開発試作センター）
土橋義知 島田理化学工業（株） 産業機器事業部（現・ジャスト（株） 専務取締役）
辻 幹夫 日本電気（株） 超LSI開発本部（現・NECエレクトロンデバイス評価技術開発本部分析技術グループ）
小田切力 オゾン層保護対策産業協議会（現・日本産業洗浄協議会）
構成および内容
第１章 精密洗浄の技術動向
1 精密洗浄技術 角田光雄
1.1 精密洗浄と超精密洗浄
1.2 洗浄の定義と再汚染
1.3 最近の洗浄技術
2 洗浄メカニズム 角田光雄
2.1 汚れの除去過程
2.2 有機質系フィルム状の汚れの除去
2.2.1 溶解作用
2.2.2 界面化学的な作用
2.3 無機系フィルム状の汚れの除去
2.4 原子・イオン状の汚れの除去
2.5 粒子状の汚れの除去
2.6 洗浄の速度論
2.7 機械作用
2.8 おわりに
3 洗浄評価技術 斉木 篤
3.1 はじめに
3.2 評価技術
3.2.1 微粒子
3.2.2 重金属
3.2.3 有機物
3.2.4 化学物質
3.3 おわりに
4 洗浄剤
4.1 有機溶剤系洗浄剤および有機溶剤系代替洗浄剤 山本芳彦
4.1.1 有機溶剤系洗浄剤
(1) フッ系有機溶剤
(2) 塩素系有機溶剤
(3) 有機溶剤の毒性
(4) 有機溶剤の溶融力
4.1.2 有機溶剤系代替洗浄剤
(1) フロン系代替洗浄剤
(2) アルコール系洗浄剤
(3) 炭化水素系洗浄剤
(4) 準水系洗浄剤
4.2 水系洗浄剤 大部一夫
4.2.1 はじめに
4.2.2 界面活性剤の種類と特徴
4.2.3 界面活性剤以外の洗浄剤成分
(1) アルカリ剤
(2) キレート剤
(3) 溶剤
(4) その他の添加成分
4.2.4 水系洗浄剤の溶液特性に関する研究の現状
4.2.5 精密洗浄用水系洗浄剤の性能
(1) 精密金属部品用洗浄剤
(2) 液晶セル用洗浄剤
(3) ハンダフラックス用洗浄剤
5 物理的洗浄技術
5.1 洗浄における機械力 平塚 豊
5.1.1 洗浄における機械力の効果と適用力
5.1.2 ブラシスクラビング
5.1.3 ジェットスプレー
5.1.4 超音波洗浄
5.1.5 メガヘルツ超音波洗浄
5.1.6 超音波スプレー洗浄
5.2 乾式洗浄技術 伊藤隆司
5.2.1 はじめに
5.2.2 光励起乾式洗浄技術の特徴
5.2.3 有機物の光ドライクリーニング
5.2.4 無機物の光ドライクリーニング
5.2.5 おわりに
6 乾燥技術 平塚 豊
6.1 精密洗浄における乾燥の特徴
6.2 洗浄システムと乾燥法
6.3 代表的な洗浄品の乾燥技術
6.3.1 シリコーンウエーハ
6.3.2 液晶表示用ガラス基板
6.3.3 プリント基板
6.3.4 磁気ディスク円板
7 水系フロン代替洗浄剤廃水処理・回収システム 内田達也
7.1 はじめに
7.2 プリント配線板実装プロセスと環境汚染物質
7.2.1 プリント配線板実装プロセスと洗浄工程
7.2.2 環境汚染物質
7.3 廃水処理・回収システム
7.3.1 計画諸元
7.3.2 廃水処理・回収技術
7.4 廃水処理・回収技術の性能評価
7.4.1 洗浄剤廃液処理
7.4.2 濃厚洗浄廃水および希薄洗浄廃水
7.4.3 処理コスト試算例
.5 処理・回収システム計画例
7.6 おわりに
8 最近のフロン代替洗浄剤
8.1 多糖類洗浄剤 阪田重信
8.1.1 はじめに
8.1.2 ジュクロシステム液開発の背景
8.1.3 ジュクロシステム液の特徴、洗浄メカニズム
8.1.4 ジュクロシステム液廃液の処理
8.1.5 安全性データ
8.1.6 Xanthomonas Campestrisの多糖類について
8.2 高級アルコール系洗浄剤 千原眞知夫
8.2.1 開発経緯
8.2.2 開発コンセプト
8.2.3 パインアルファST-100Sの諸特性
8.2.4 パインアルファST-100Sの洗浄力
8.2.5 パインアルファST-100Sの洗浄システム
8.2.6 今後の課題
8.3 フッ化プロパノール洗浄剤 井手 哲
8.3.1 はじめに
8.3.2 フッ素アルコール洗浄剤"ペフォール"
8.3.3 ペフォールの特性
8.3.4 洗浄特性
8.3.5 ペフォールの安全性
8.3.6 おわりに
8.4 HCFC系洗浄剤 北村健郎
8.4.1 はじめに
8.4.2 フロン洗浄剤の性質
8.4.3 開発動向
(1) 開発の現状
(2) エタン系HCFC洗浄剤（HCFC-123／141b）
(3) プロパン系HCFC洗浄剤（HCFC-225）
(4) 安全性／環境への影響評価
8.4.4 おわりに
8.5 洗浄システム 土橋義知
8.5.1 はじめに
8.5.2 フロンを脱水、乾燥に使用している場合の代替システム
(1) IPA乾燥システム
(2) 純水・熱風乾燥システム
(3) プラズマ乾燥
(4) スピン乾燥
(5) エアーナイフ
8.5.3 フロンで汚れまたはフラックスを除去する場合の代替方法
(1) ハロゲン化炭化水素系
(2) アルコール
(3) アルコール水溶液
(4) テルペン系
(5) 炭化水素系
(6) アルカリ系
8.5.4 おわりに
第２章 超精密洗浄技術 辻 幹夫
1 はじめに
2 ウェハ洗浄技術
3 ウェハ乾燥技術
4 従来の洗浄技術の問題点と新洗浄技術
5 洗浄用製品
6 今後の洗浄技術の課題と動向
第３章 CFC-113と1,1,1-トリクロロエタンの規制動向と規制対応状況 小田切力
1 国際法による規制スケジュール
1.1 モントリオール議定書及びその改正による規制
1.2 モントリオール議定書の再度の改正の準備
1.3 UNEPアセスメントパネル
1.3.1 設立の経緯と現在の活動
1.3.2 科学アセスメントパネル
1.3.3 環境影響アセスメントパネル
1.3.4 技術・経済アセスメントパネル
1.4 「第４回モントリオール議定書締約国会合」
2 規制強化に関する最近の動向
2.1 日本における動向
2.2 米国の動向
2.3 ヨーロッパの動向
2.4 環境保護団体
3 各国の国内法による規制スケジュール
3.1 アメリカ
3.1.1 改正大気浄化法
3.1.2 オゾン破壊物質に対する課税制度
3.1.3 重要な新代替品製作の計画
3.2 ドイツ
3.3 EEC（欧州経済共同体）
3.4 その他
4 各企業の規制対応状況
第４章 洗浄剤・洗浄装置などの市場 シーエムシー編集部
1 洗浄剤
1.1 規制対象を含む洗浄剤の需要現状
1.2 転換対象洗浄剤
1.2.1 無洗浄化
1.2.2 水系洗浄
1.2.3 準水系洗浄剤
1.2.4 第２世代フロン
1.2.5 有機溶剤系洗浄剤
1.2.6 その他
2 純水製造装置、公害防止装置などの市場
2.1 回収・再生装置
2.1.1 冷却凝縮法
2.1.2 吸着方式
2.2 純水製造装置、他
2.3 洗浄装置、他
2.4 公害防止装置、他
3 おわりに
内容説明
超精密洗浄技術が環境問題により変化した。そのことについて各分野の第一線で活躍中の方々に執筆していただいている。
目次
第１章 精密洗浄の技術動向（精密洗浄技術；洗浄メカニズム ほか）
第２章 超精密洗浄技術（ウェハ洗浄技術；ウェハ乾燥技術 ほか）
第３章 ＣＦＣ‐１１３と１，１，１‐トリクロロエタンの規制動向と規制対応状況（国際法による規制スケジュール；規制強化に関する最近の動向 ほか）
第４章 洗浄剤・洗浄装置などの市場（洗浄剤；純水製造装置、公害防止装置などの市場）
著者等紹介
角田光雄［ツノダテルオ］
元東京家政学院大学家政学部
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。
