超並列電子ビーム描画装置の開発―集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

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超並列電子ビーム描画装置の開発―集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

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  • サイズ A5判/ページ数 228p/高さ 21cm
  • 商品コード 9784861632969
  • NDC分類 549.95
  • Cコード C3054

出版社内容情報

並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。

第1章 マスクレス露光と電子ビーム描画・転写

第2章 並列電子ビーム描画の課題

第3章 並列電子ビーム描画装置用電子源

第4章 超並列電子ビーム描画(MPEBW)

第5章 応用と今後の課題

 

江刺 正喜[エサシ マサヨシ]
著・文・その他

宮口 裕[ミヤグチ ヒロシ]
著・文・その他

小島 明[コジマ アキラ]
著・文・その他

池上 尚克[イケガミ ナオカツ]
著・文・その他

越田 信義[コシダ ノブヨシ]
著・文・その他

菅田 正徳[スガタ マサノリ]
著・文・その他

大井 英之[オオイ ヒデユキ]
著・文・その他

目次

第1章 マスクレス露光と電子ビーム描画・転写(マスクレス露光(描画)
各種電子ビーム描画・転写)
第2章 並列電子ビーム描画の課題(電子ビーム制御;電子ビームの集束と電子レンズ ほか)
第3章 並列電子ビーム描画装置用電子源(研究されてきた各種電子源;ナノクリスタルシリコン(nc‐Si)電子源)
第4章 超並列電子ビーム描画(MPEBW)(システム構成;電子源アレイ ほか)
第5章 応用と今後の課題(デバイス大量生産への応用;マルチビーム技術の直接描画への応用 ほか)

著者等紹介

江刺正喜[エサシマサヨシ]
1971年東北大学工学部電子工学科卒。1976年同大学院博士課程修了。同年より東北大学工学部助手、1981年助教授、1990年より教授となり現在(東北大学マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC))に至る。半導体センサ、マイクロシステム、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)の研究に従事

宮口裕[ミヤグチヒロシ]
1979年慶應義塾大学工学研究科電気工学専攻修士課程修了。同年、(株)東芝に入社し、ビデオ機器および関連LSIの開発。1987年日本テキサスインスツルメンツ(株)に入社し、ビデオ信号処理DSPとそのアプリケーションの開発。2011年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて触覚センサーシステムならびに超並列電子線直接描画装置の開発に従事。2017年より東北大学革新的イノベーション研究機構に勤務

小島明[コジマアキラ]
2003年東京農工大学工学研究科にて博士(工学)取得。2007年より2013年まで(株)クレステックにて、ナノ結晶シリコン電子源を応用した面電子線露光の研究開発。2014年より東北大学マイクロシステム融合研究開発センターにて超並列電子線直接描画装置の開発。2017年より(株)カンタム14に勤務

池上尚克[イケガミナオカツ]
1984年慶応義塾大学工学部電気工学科卒業。1998年同大学大学院理工学研究科より博士(工学)。1984年~2009年沖電気工業(株)にてDRAM、完全空乏型SOIデバイス対応プラズマエッチングプロセスの研究開発、量産立ち上げ、および多軸MEMS加速度+ジャイロセンサの研究開発とその海外市場開拓等に従事。東北大学、東京農工大学を経て2014年東北大学マイクロシステム融合研究開発センターで超並列電子線描画装置の開発に従事。2017年よりGoertek Technology Japan(株)に勤務

越田信義[コシダノブヨシ]
1966年東北大学工学部電子工学科卒。1973年同大学院博士課程修了(工学博士)。日産自動車(株)中央研究所を経て、1981年東京農工大学助教授、1988年同教授、2009年同特任教授・名誉教授。この間、米MIT客員研究員(1992‐1993)、仏J.フーリエグルノーブル大学招聘客員教授(1996)、(株)カンタム14CTO(2003~)。ナノ構造シリコンなどの光電子材料・デバイスに関する研究に従事。米Electrochemical Societyフェロー(2006)、応用物理学会フェロー(2007)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
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