内容説明
ＬＳＩの故障解析を実施する際や、故障解析技術を研究開発する際に必要な知識・経験は多岐にわたるが、本書の中心は故障解析技術そのものである。本書では、最新の技術を解説するとともに、広く用されている従来からの技術も紹介する。
目次
第１章 ＬＳＩの故障とその特徴（故障解析に関連するＬＳＩのトレンド；ＬＳＩの故障の特徴 ほか）
第２章 ＬＳＩ故障解析技術概論（基本の「き」；故障解析の手順 ほか）
第３章 故障解析事例（ＤＲＡＭのＩＲ‐ＯＢＩＲＣＨなどによる解析事例；ロジックＬＳＩ（システムＬＳＩ）の解析事例 ほか）
第４章 新しい故障解析関連手法の開発動向（光を利用した故障解析技術発展の流れと最近の動向；ＯＢＩＲＣＨ関連手法発展の流れと最近の動向 ほか）
著者等紹介
二川清［ニカワキヨシ］
１９４９年大阪市生まれ。大阪大学大学院基礎工学研究科物理系修士課程修了。工学博士。１９７４年‐２００９年、ＮＥＣ、ＮＥＣエレクトロニクスにて半導体の信頼性・故障解析技術の研究開発と実務に従事。その間、日本信頼性学会副会長、理事、評議員など。現在、大阪大学大学院特任教授、金沢工業大学大学院客員教授、芝浦工業大学、東京理科大学非常勤講師。電子情報技術産業協会・半導体技術ロードマップ委員会・故障解析技術ＳＷＧリーダー、日本信頼性学会ＬＳＩ故障解析研究会主査（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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