エレクトロニクスシリーズ 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合 晃【監修】

シーエムシー出版（2024/08発売）

• サイズ B5判／ページ数 320p／高さ 26cm
• 商品コード 9784781317748
• NDC分類 549.7
• Cコード C3043

出版社内容情報

フォトレジスト材料および露光技術の特長を最大限に発揮させるためのレジストプロセス技術の最適化を徹底解説した1冊。

目次

第１編　総論
第２編　フォトレジスト材料の開発
第３編　フォトレジスト特性の最適化と周辺技術
第４編　材料解析・評価
第５編　応用展開
第６編　レジスト処理装置