目次
リソグラフィ技術の概要
光化学反応の基礎
光酸発生剤
従来型フォトレジスト―ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
ＫｒＦレジスト
ＡｒＦレジスト
ＡｒＦ液浸用レジスト
ダブルパターニング用材料
ＥＵＶレジスト
電子線レジスト
分子レジスト
反射防止材料
ＵＶナノインプリント用材料
ブロック共重合体リソグラフィ
著者等紹介
上田充［ウエダミツル］
東京工業大学大学院理工学研究科有機・高分子物質専攻教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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