目次
１ 基礎編（半導体製造装置と真空；真空の理論と計算；真空ポンプとその使い方；真空ゲージとその使い方；ガスシステム・真空部品とその使い方 ほか）
２ 応用編（サーマル装置とプロセス；プラズマ装置とプロセス；ＰＶＤ装置とプロセス；ＣＶＤ装置とプロセス；エッチング装置とプロセス ほか）
著者等紹介
宇津木勝［ウツギマサル］
１９５４年生まれ。８１年日本テキサスインスツルメンツ（株）入社。美浦工場生産技術部を経てＵＬＳＩ技術開発部へ。ＵＳダラス本社プロセスオートメーションセンターにて装置プロセス開発に従事。美浦工場にて装置開発に従事後プロセスへ転向。ＤＲＡＭ・ロジックデバイスの開発に従事。９６年アプライドマテリアルジャパン（株）入社。成田テクノロジーセンター勤務。カスタマーサポートおよび社内外の技術教育に従事。２００１年同社退職後（株）寺子屋みほ設立、取締役就任。半導体関連の技術教育およびコンサルタント業務に従事。現場に即したわかりやすい教育講座を提供（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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