内容説明
ナノテクノロジー時代到来が叫ばれている今日、半導体プロセスの微細化は際限なく続いている。将来的には５０ｎｍ以下がターゲットになっており、半導体プロセスも「ナノプロセス時代」に入る。本書はナノテクノロジー時代の半導体プロセス技術について、これまでの技術の流れからどのような変革が行われようとしているかを具体的に解説している。この他にも半導体デバイス、実装技術、製造技術、関連材料、測定・評価技術などの重要テーマの動向についてもふれている。半導体ナノプロセスを取り巻く全体像がつかめて興味深い。
目次
第１章 ナノテクノロジー時代の到来
第２章 半導体技術におけるナノテクノロジー
第３章 ナノテクノロジー時代の半導体デバイス
第４章 半導体ナノプロセスの概要
第５章 基本ナノプロセス
第６章 複合ナノプロセス
第７章 半導体ナノプロセスのこれから
著者等紹介
前田和夫［マエダカズオ］
１９３５年東京生れ。１９５９年横浜国立大学化学工業科卒。１９５９年～１９７８年富士通株式会社勤務。１９７７年東京大学より工学博士号授与。１９７８～１９８２年パイオニア株式会社勤務。１９７９年米国ＳＥＭＩ（半導体装置材料協会）よりＳＥＭＭＹ賞授与。１９８２～１９８８年アプライドマテリアルズジャパン株式会社勤務。１９８８年株式会社半導体プロセス研究所設立、現在に至る。応用物理学会・電気学会・電気化学協会会員・米国電気化学協会会員
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