内容説明
本書は、超ＬＳＩシリーズの２０巻目にあたり、サブ０．１μｍ世代に向けて各プロセスを基礎から見直し、今後の開発方向を考えることを目的とした。
目次
１章 シリコンＬＳＩの将来
２章 イオン注入によるクォータミクロンＣＭＯＳ構造設計
３章 高精度プロセスモデリング
４章 ０．３５～０．２５μｍ光リソグラフィ技術
５章 ＥＢ露光（図形一括露光とマルチビーム）の現状と課題
６章 化学増幅型レジストの現状と今後の展望
７章 Ｏ３酸化技術
８章 アルミニウム配線のエレクトロマイグレーション
９章 シリコンにおける重金属ゲッタリング
