光励起プロセスの基礎―プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋 清/松波 弘之/村田 好正/英 貢【編著】

工業調査会（1994/03発売）

• サイズ A5判／ページ数 266p／高さ 21cm
• 商品コード 9784769311225
• NDC分類 549
• Cコード C3055

目次

光励起プロセスの概論
光励起プロセスの基礎
表面反応・気相反応の基礎過程
光励起プロセスによる膜形成の基礎過程
反応の診断・計測
光励起プロセスを用いた新しい製膜プロセス
光励起エッチング反応とその応用
光励起プロセスのデパイスへの応用
光励起プロセスの将来展望