目次
シリコン原子
固体シリコン
シリコンの結晶構造
半導体のエネルギー帯構造
状態密度とキャリア分布
電気伝導
シリコン結晶作製とドーピング
ｐｎ接合とショットキー接合
ヘテロ構造
ＭＯＳ構造
ＭＯＳトランジスタ（ＭＯＳＦＥＣＴ）
バイポーラトランジスタ
集積回路（ＬＳＩ）
シリコンパワーデバイス
シリコンフォトニクス
シリコン薄膜デバイス
著者等紹介
白木靖寛［シラキヤスヒロ］
１９４２年福岡県生まれ。１９６５年東京大学工学部物理工学科卒業。１９６７年東京大学大学院工学系研究科応用物理修士課程修了。三井石油化学工業（株）総合研究所入社。１９６９年（株）日立製作所中央研究所入社。１９８７年東京大学先端科学技術研究センター助教授。１９９１年東京大学大学院工学系研究科教授。２００４年武蔵工業大学（現東京都市大学）教授・総合研究所所長。２０１３年退職。東京大学・東京都市大学名誉教授。工学博士。応用物理学会名誉会員・元会長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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