内容説明
本書は、現在のＬＳＩの基幹を成しているＳｉ ＭＯＳ ＬＳＩプロセスを中心に記述したものである。これからこの分野の勉強を始めようとする学生・大学院生、あるいは技術者のため、半導体プロセスに関する理論と技術をできる限り整理し、基礎的事項を学べるようにまとめた。まず、ＭＯＳ ＬＳＩの基本素子であるＭＯＳトランジスタの基本的知識とＭＯＳトランジスタなどの素子の製作に必要なプロセスモジュールを概観した後、リングラフィ、エッチング、不純物導入技術などからプロセス評価技術まで、個々の要素プロセスの内容を体系的かつ詳細に記述している。
目次
１ 基本素子の動作機構と製作プロセス
２ プロセスモジュールと製作プロセス
３ リソグラフィ
４ エッチング技術
５ 絶縁膜技術
６ 不純物導入技術
７ 薄膜堆積技術
８ ウェーハ清浄化技術
９ 結晶・ウェーハ技術
１０ プロセスシミュレーション
１１ 半導体プロセス評価技術
