内容説明
本書では、プロセス制御システムの設計の基礎から応用までを、化学工学を専攻していない人にも、順に学んでいけるようにまとめた。特に、化学プロセスを具体的対象に、物理モデルの構築の仕方をはじめ、プロセス制御の分野から提案されたモデル予測制御や内部モデル制御の基礎的な理論およびそれらの理論と従来のＰＩＤ制御との関連についても述べている。
目次
プラントとプロセス制御
プロセス制御システム設計の基本ステップ
プロセス制御とハードウェア
プロセスモデリング
コントローラの設計（ＳＩＳＯ系；多重ループ制御；多変数制御）
著者等紹介
大嶋正裕［オオシママサヒロ］
１９８１年京都大学工学部化学工学科卒業。１９８６年京都大学大学院博士後期課程修了（化学工学専攻）。１９８７年工学博士。１９９４年宮崎大学助教授。１９９６年京都大学助教授。２００１年京都大学教授、現在に至る
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