目次
半導体集積回路の生産性
pn接合とその特性
バイポーラトランジスタの構造とプロセス
バイポーラトランジスタの特性
酸化膜の形成
MOSトランジスタの構造と特性
MOSトランジスタのしきい値電圧
ホトレジスト加工のパターン限界
加工精度とトランジスタ特性ばらつき
バイポーラトランジスタのデバイス定数と特性〔ほか〕
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- 和書
- ドクター・ディマー
半導体集積回路の生産性
pn接合とその特性
バイポーラトランジスタの構造とプロセス
バイポーラトランジスタの特性
酸化膜の形成
MOSトランジスタの構造と特性
MOSトランジスタのしきい値電圧
ホトレジスト加工のパターン限界
加工精度とトランジスタ特性ばらつき
バイポーラトランジスタのデバイス定数と特性〔ほか〕