目次
１ 半導体工業の歴史と集積回路
２ 集積回路の種類
３ モノリシック集積回路のあらまし
４ ｐｎ接合とＭＯＳ構造
５ 半導体モノリシックＩＣの製造技術
６ 半導体モノリシックＩＣの構成素子
７ 半導体モノリシックＩＣのパターン設計
著者等紹介
永田穰［ナガタミノル］
１９５６年東京大学工学部電気工学科卒業。１９５６年（株）日立製作所入社。１９６６年工学博士（東京大学）。１９７２年同社中央研究所第３部長。１９７５年同社中央研究所主管研究員。１９８５年同社理事、中央研究所技師長。１９９５年同社理事、研究開発推進本部技師長。１９９８年同社名誉嘱託
柳井久義［ヤナイヒサヨシ］
１９４２年東京大学工学部電気工学科卒業。１９５３年工学博士（東京大学）。１９６０年東京大学教授。１９８１年東京大学名誉教授、芝浦工業大学教授、東京芝浦電気（株）総合研究所顧問。１９８６年芝浦工業大学学長。１９９１年芝浦工業大学名誉教授。１９９５年逝去（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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