内容説明
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二次イオン質量分析法(SIMS)は、試料表面にイオンビームを照射し、飛び出した二次イオンの質量を検出して物質を同定し、さらに各物質の試料中での分布をイメージングする手法である。金属や半導体から高分子材料、 生体試料にも適用できる分析法として、多くの研究分野で活用されている。25年ぶりの大改訂となる本書では、重要性の高い基礎的な内容だけでなく、目的別の応用例を大幅に拡充。これからSIMSを使い始める学生はもちろん、現場の実務者にとっても有用な手引きとなる一冊。
目次
1 二次イオン質量分析法(SIMS)とは何か
1.1 なぜSIMSで表面分析ができるのか
1.2 なぜSIMSで深さ方向分析ができるのか
1.3 なぜSIMSでイメージングができるのか
1.4 SIMSの歴史
1.5 SIMSで分析できる試料
2 SIMSの原理
2.1 スパッタリング収率
2.2 二次イオン化率 と二次イオン収率
2.3 マトリックス効果
3 SIMS装置の基礎
3.1 装置の概略
3.2 一次イオン照射系
3.3 ガスクラスターイオンビーム(GCIB)
3.4 二次イオン質量分析計
3.5 高空間分解能SIMS
4 SIMSによる測定の実際
4.1 試料の準備
4.2 無機物の定性分析
4.3 有機物の定性分析
4.4 定量分析
4.5 深さ方向分析
4.6 二次元・三次元イメージング
5 SIMSの応用・発展
5.1 無機物・金属・半導体の測定および元素分析
5.2 有機物・高分子の測定
5.3 生体試料の測定
5.4 発展的手法
おわりに:これからのSIMS
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