Temperature Measurement during Millisecond Annealing : Ripple Pyrometry for Flash Lamp Annealers (Matwerk)

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Temperature Measurement during Millisecond Annealing : Ripple Pyrometry for Flash Lamp Annealers (Matwerk)

Reichel, Denise

ウェブストア価格 ¥12,078（本体¥10,980）
Springer（2016/01発売）
外貨定価 US$ 54.99
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製本 Paperback:紙装版/ペーパーバック版／ページ数 112 p.
商品コード 9783658113872

Full Description

Denise Reichel studies the delicate subject of temperature measurement during lamp-based annealing of semiconductors, in particular during flash lamp annealing. The approach of background-correction using amplitude-modulated light to obtain the sample reflectivity is reinvented from rapid thermal annealing to apply to millisecond annealing. The author presents a new method independent of the lamp operation to obtain this amplitude modulation and derives a formula to describe the process. Further, she investigates the variables of the formula in depth to validate the method's suitability for background-corrected temperature measurement. The experimental results finally proof its power for elevated temperatures.

Introduction and motivation.- Fundamentals of flash lamp annealing of shallow Boron-doped Silicon.- Fundamentals of surface temperature measurements during flash lamp annealing.- Concept of ripple pyrometry during flash lamp annealing.- Ripple pyrometry for flash lamp annealing.- Experiments - ripple pyrometry during flash lamp annealing.- Closing discussion and outlook.