Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) （2013. 139 S. 139 p. 229 mm）

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Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films (Progress in Numerical Simulation for Microelectronics) （2013. 139 S. 139 p. 229 mm）

Kleijn, Chris R./ Werner, Christoph

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SPRINGER, BASEL; BIRKHÄUSER BASEL; BIRKHÄUSER（2013発売）
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製本 Paperback:紙装版/ペーパーバック版
商品コード 9783034877435

Full Description

Semiconductor equipment modeling has in recent years become a field of great interest, because it offers the potential to support development and optimization of manufacturing equipment and hence reduce the cost and improve the quality of the reactors.