Hf-Based High-k Dielectrics : Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)

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  • 製本 Paperback:紙装版/ペーパーバック版／ページ数 92 p.
  • 言語 ENG
  • 商品コード 9783031014246

Full Description

Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm).