内容説明
光をナノ寸法にすること。信念と勇気をもって、これを可能にした人たちの挑戦のストーリーを紹介。
目次
第１章 ナノフォトニクス事始め（ナノフォトニクスとは何か？；近接場光を使えばできる ほか）
第２章 微細計測、分析への挑戦（ナノ領域には何がある？；ナノ領域を光らせる ほか）
第３章 極限加工への挑戦（近接場光リソグラフィへの道のり；近接場光リソグラフィを実用技術に―二層レジスト ほか）
第４章 高密度記録の限界への挑戦（高密度記録の必要性；では、どうやって高記録密度を実現するか？ ほか）
第５章 マイクロマシンの限界への挑戦（マイクロマシンの誕生；光技術とマイクロマシン ほか）
著者等紹介
大津元一［オオツモトイチ］
１９７３年東京工業大学工学部電子工学科卒業、１９７８年同大学院理工学研究科電子物理工学専攻博士後期課程修了。現在、東京工業大学教授。工学博士（１９７８年）
納谷昌之［ナヤマサユキ］
１９８５年北海道大学大学院工学研究科修士課程修了（応用物理）。現在、富士写真フイルム株式会社宮台技術開発センター主任研究員
高橋淳一［タカハシジュンイチ］
１９８１年早稲田大学理工学部電気工学科卒業。現在、株式会社リコー研究開発本部中央研究所課長研究員
日暮栄治［ヒグラシエイジ］
１９９１年東北大学大学院工学研究科電子工学専攻博士前期課程修了。現在、ＮＴＴマイクロシステムインテグレーション研究所主任研究員。工学博士（１９９９年）
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