内容説明
ナノインプリントの基礎とともに現状で最新のナノインプリント装置と関連部材、多様なデバイス応用についてわかりやすく解説。実際にナノインプリント技術に取り組む際に参考になる最新の研究成果を網羅している。
目次
ナノインプリントと微細加工
ナノインプリントの物理化学とシミュレーション
熱ナノインプリント
ＵＶナノインプリント
室温ナノインプリント
モールド技術
離型技術
装置技術
３次元化・積層技術
ナノ光学応用〔ほか〕
著者等紹介
松井真二［マツイシンジ］
昭５６阪大・基礎工・博士了。同年日本電気（株）入社。基礎研究所にて電子・イオンビームを利用したナノテクノロジー研究、平９（株）半導体先端テクノロジー基盤技術研究部にて先端電子ビーム描画装置開発リーダを経て、平１０‐１５姫路工大高度研教授、平１６兵庫県立大高度研教授。電子・イオンビーム・ナノインプリントを利用したナノテクノロジー研究開発に従事。工博。電子情報通信学会、応用物理学会、精密工学会各会員
平井義彦［ヒライヨシヒコ］
昭５４阪府大・工・電子卒。昭５６同大学院・工・電子・修士了。同年松下電器産業（株）入社。中央研究所、半導体研究センターにてサブミクロンリソグラフィー、量子効果素子の研究を経て、平８‐１５阪府大・工・機械システム助教授。平１６同大学院工・電子物理教授。マイクロ・ナノリソグラフィーの研究に従事。工博。電子情報通信学会、応用物理学会、日本機械学会、精密工学会各会員（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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