内容説明
特定デジタルプラットフォームの透明性及び公正性の向上に関する法律のポイント解説も収録！知的財産と独禁法の基礎から最新実務までをすべてカバー！法務担当者、そして知的財産と独禁法に関わる方必携の書！
目次
第１章 基礎知識編―まず押さえておきたい知的財産権と独禁法との交錯の出発点
第２章 応用編其の壱―公取委の考え方
第３章 応用編其の弐―独禁法における最新トレンド
第４章 応用編其の参―標準化活動・パテントプール
第５章 応用編其の肆―標準必須特許
第６章 応用編其の伍―共同研究開発
第７章 応用編其の陸―リバースペイメント・並行輸入・ソフトウェアライセンス
著者等紹介
永口学［エイグチマナブ］
２００７年弁護士登録。岩田合同法律事務所所属。独禁法違反被疑事件（犯則調査、立入検査等）、公取委における審判請求事件（被審人側代理人）、課徴金減免申請（リニエンシー）等の独禁法案件のほか、下請法違反被疑事件や消費税転嫁特措法違反被疑事件等も多く手がけている。また、危機管理案件対応にも多数実績を有し、第三者委員等を歴任。企業向けのコンプライアンス関連の研修講師も多数務める
工藤良平［クドウリョウヘイ］
２０１１年弁護士登録。岩田合同法律事務所所属。知的財産権一般に関する助言、特許法、商標法、不正競争防止法、著作権法、独占禁止法等の分野に関する契約交渉代理のほか、国内外における紛争解決も多く手がけている（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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