内容説明
最近の判例を中心に、初版では紹介できなかった考え方を示している判例や、米国特許制度に特有な情報開示義務制度に伴う不均衡な行為に関する判例等も掲載。
目次
米国の法制度と特許法
主な特許関係の訴訟の流れ
米国特許法の基本的考え
発明の特許性
明細書の記載要件
特許商標庁とのやりとり
出願に際しての不衡平な行為（情報開示義務違反等）
特許後の手続き
特許商標庁の行なった手続きに対する訴え
所有権と譲渡
特許侵害
特許侵害に対する抗弁（特許権の不行使）
特許侵害に対する救済、その他
権利の消尽
特許法と州法との関係
ライセンス
ＣＥＦＣの裁判管轄権
著者等紹介
山下弘綱［ヤマシタヒロツナ］
１９７８年３月九州大学工学部造船学科卒業。１９７８年４月特許庁入庁（１９８２年４月審査官）。１９８６年９月～米国ジョージア工科大学留学（１９８７年８月帰国）。１９８８年１１月～１９８９年３月世界知的財産機関（ＷＩＰＯ）コンサルタント。１９９３年７月～１９９６年６月知的財産研究所ワシントン事務所所長。１９９６年７月～２００５年７月室長、審査長、審判長などを歴任し、２００５年７月特許庁退職。２００８年５月米国Ｆｒａｎｋｌｉｎ Ｐｉｅｒｃｅ Ｌａｗ Ｃｅｎｔｅｒ卒業（Ｊｕｒｉｓ Ｄｏｃｔｏｒ）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。
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