目次
ＥＢ利用の基礎編（ＥＢ反応の基礎；重合・グラフト重合；架橋反応について）
最近の装置の動向と計測技術編（岩崎電気（株）グループの低エネルギー電子線（ＥＢ）装置の動向
日立造船（株）の低エネルギー電子線エミッタ
（株）ＮＨＶコーポレーションの電子線照射装置
浜松ホトニクス（株）の低エネルギー電子線照射源
多彩な電子ビームを発生する半導体フォトカソード電子銃の開発
電子線の計測技術）
ＥＢ照射技術の産業利用編（グラフト重合；架橋；分解（菌・無害化））
著者等紹介
鷲尾方一［ワシオマサカズ］
早稲田大学理工学術院総合研究所教授
前川康成［マエカワヤスナリ］
（国研）量子科学技術研究開発機構量子ビーム科学研究部門高崎量子応用研究所先端機能材料研究部部長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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