エレクトロニクスシリーズ フォトレジスト材料開発の新展開 （普及版）

上田 充【監修】

シーエムシー出版（2015/11発売）

• サイズ B5判／ページ数 317p／高さ 26cm
• 商品コード 9784781310398
• NDC分類 578.4
• Cコード C3043

目次

リソグラフィ技術の概要
光化学反応の基礎
光酸発生剤
従来型フォトレジスト―ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
ＫｒＦレジスト
ＡｒＦレジスト
ＡｒＦ液浸用レジスト
ダブルパターニング用材料
ＥＵＶレジスト
電子線レジスト
分子レジスト
反射防止材料
ＵＶナノインプリント用材料
ブロック共重合体リソグラフィ