エレクトロニクスシリーズ ＥＵＶ光源の開発と応用 （普及版）

豊田 浩一/岡崎 信次【監修】

シーエムシー出版（2013/03発売）

• サイズ B5判／ページ数 273p／高さ 26cm
• 商品コード 9784781307091
• NDC分類 549.95
• Cコード C3054

目次

第１編　ＥＵＶ光源の開発（露光装置とＥＵＶリソグラフィ；ＥＵＶリソグラフィ用光源プラズマ；プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状；究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマＸ線源　ほか）
第２編　ＥＵＶリソグラフィ用のマスクとレジスト技術（Ｘ線多層膜の物理；ＥＵＶ用反射型マスク基板；ＥＵＶ用マスク；ＥＵＶレジストの特異性と反応機構　ほか）